[發明專利]濺射法生產高穩定性金屬膜電阻器用的高阻靶材制造方法無效
| 申請號： | 02146604.1 | 申請日： | 2002-10-28 |
| 公開（公告）號： | CN1415779A | 公開（公告）日： | 2003-05-07 |
| 發明（設計）人： | 張之圣;李國俊;姚家新;胡明;劉志剛;李曉云;李海燕;樊攀峰 | 申請（專利權）人： | 天津大學 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C22C27/06;C22C29/18;C22C1/02;H01C17/12;H01C7/00 |
| 代理公司： | 天津市學苑有限責任專利代理事務所 | 代理人： | 趙尊生 |
| 地址： | 30007*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 濺射 生產 穩定性 金屬膜 電阻 器用 高阻靶材 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
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