[發明專利]用超臨界氣體飽和溶液制造超細微粒的方法和設備無效
| 申請號： | 02146099.X | 申請日： | 2002-11-06 |
| 公開（公告）號： | CN1498675A | 公開（公告）日： | 2004-05-26 |
| 發明（設計）人： | 尹恩華 | 申請（專利權）人： | 尹恩華 |
| 主分類號： | B01J2/00 | 分類號： | B01J2/00;B01D11/04 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100083北京市海淀區東升*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 臨界 氣體 飽和溶液 制造 細微 方法 設備 | ||
【說明書】：
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