[發明專利]形成襯底的浮置結構、浮置柵電極和場致發射器件的方法無效
| 申請號： | 02144500.1 | 申請日： | 2002-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN1427437A | 公開（公告）日： | 2003-07-02 |
| 發明（設計）人： | 樸永俊;韓仁澤 | 申請（專利權）人： | 三星SDI株式會社 |
| 主分類號： | H01J9/02 | 分類號： | H01J9/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人： | 李曉舒,魏曉剛 |
| 地址： | 暫無信息 | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 形成 襯底 結構 浮置柵 電極 發射 器件 方法 | ||
【說明書】：
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