[發明專利]掩模及其制造方法、場致發光裝置及其制造方法以及電子機器有效
| 申請號： | 02142597.3 | 申請日： | 2002-09-24 |
| 公開（公告）號： | CN1494359A | 公開（公告）日： | 2004-05-05 |
| 發明（設計）人： | 四谷真一 | 申請（專利權）人： | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號： | H05B33/10 | 分類號： | H05B33/10 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 及其 制造 方法 發光 裝置 以及 電子 機器 | ||
【說明書】：
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