[發明專利]藥液涂敷方法及其涂敷裝置

無效

• 申請號: 02141280.4
• 申請日: 2002-07-05
• 公開（公告）號: CN1396007A
• 公開（公告）日: 2003-02-12
• 發明（設計）人: 前園武志
• 申請（專利權）人: 日本電氣株式會社
• 主分類號: B05D1/36
• 分類號: B05D1/36;B05C5/00;B05C11/10;B05D3/00
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 穆德駿,袁炳澤

技術領域

本發明涉及藥液涂敷方法及其涂敷裝置，例如在液晶用玻璃基板上涂敷藥液時，該方法和裝置能夠高效率進行均勻調整藥液漫延的藥液抑止，以使在涂敷過的藥液中不發生涂敷不勻。

背景技術

下面，用附圖說明現有的藥液涂敷裝置。圖6是現有的藥液涂敷裝置的示意結構圖。如圖6所示，現有的藥液涂敷裝置包括：藥液處理槽1，在液晶用玻璃基板等大尺寸的基板6上進行藥液涂敷；運送滾輪5，運送設置在藥液處理槽1內部的基板6；藥液貯液箱2，設置在藥液處理槽1的底部；下滴噴嘴7，向基板6上下滴藥液；以及可調整角度的氣刀，用于調整下滴的藥液的彌散；下滴噴嘴7通過泵3、過濾器4與貯液箱2進行管線連接，而氣刀8被管線連接到空氣發生源9。

然后，相對于基板6的行進方向，將氣刀8配置在下滴噴嘴7的上流側。此外，氣刀8具有比基板6的寬度稍寬的尺寸，同時將空氣噴出口朝向與基板6的行進方向垂直的方向來設置，以規定的角度向基板6上吹出高壓空氣。此外，貯液箱2具備回收處理后的藥液并進行循環的功能。

下面用圖7來說明使用這樣的現有結構的藥液涂敷裝置，在基板上進行藥液涂敷的方法。圖7是圖6的局部放大圖。首先，將基板6搬入到藥液處理槽中。搬入的基板6通過運送滾輪5沿基板行進方向(用箭頭表示)按一定速度移動。從氣刀8始終向基板6的表面以規定的角度吹出高壓空氣12，從該氣刀8下方通過的基板6到達下滴噴嘴7的下方。藥液11連續地從下滴噴嘴7滴下，在基板6的前端到達下滴噴嘴7的正下方的時刻從下滴噴嘴7向基板表面涂敷藥液11，藥液11在行進的基板6上流動彌散。彌散到基板6的后方的藥液11通過從垂直于基板行進方向的氣刀8吹出的高壓空氣12，使藥液11的彌散的前沿在基板寬度方向上被抑制成一直線狀(以下，將該狀態稱為藥液抑止)。在該藥液抑止的狀態下，隨著基板6的行進，藥液11的彌散的前沿在基板6的后端之前大致維持一直線狀并進行流動，所以可以在基板6上存在沒有涂敷彌散不勻的均勻的飽滿藥液。

作為使用該氣刀的這種相關技術，有(日本)特開2001-87702號公報，如上所述，該技術用于除去在基板上涂敷的多余的液體，而未論述以下方法：為了沒有涂敷彌散不勻，使用氣刀作為設置于下滴噴嘴前側的藥液抑止部件。

但是，在上述的現有涂敷方法中，如圖8的說明圖所示，為了使從氣刀8吹出的空氣流均勻，需要嚴密地進行空氣吹出口13的間隙調整。調整通過固定螺釘16進行(示于圖9)，但如果調整得不好，則無論什么場所在間隙上都產生差別。因此，從空氣吹出口13吹出的高壓空氣12a、12b、12c的吹出方向分散，高壓空氣的流動不集中，即使進行氣刀8的角度調整，也不能消除該分散。

特別是在液晶用玻璃基板這樣的基板尺寸大的情況下，在基板上不易均勻地進行藥液彌散，難以把向與基板行進方向垂直的方向彌散的藥液涂敷得均勻，其結果，如圖9的俯視圖所示，僅用氣刀8不能充分阻止藥液11在基板6上流動漫延，在涂敷后的藥液11中產生涂敷不勻15，在基板6的涂敷結束后，殘留著該涂敷不勻15影響的基板6被運送到下一工序。殘留了該涂敷不勻15影響的部分其藥液的涂敷厚度也不均勻，很可能對下一工序產生不良影響。

于是，在現有的藥液涂敷方法和裝置中，僅用氣刀使藥液抑止不充分而產生涂敷彌散不勻，在殘留受該涂敷彌散不勻影響的狀態下，基板被運送到下一工序。例如，如果藥液涂敷工序是清洗液涂敷工序，則在下一工序的清洗液除去工序中也不能除去涂敷不勻的影響而仍殘留下來，成為清洗不良的原因。

發明內容

因此，本發明提供一種藥液涂敷方法及其涂敷裝置，在液晶用玻璃基板這樣的尺寸大的基板上涂敷藥液時，通過設置能夠充分阻止藥液在基板上流動漫延的藥液抑止部件，從而在涂敷過藥液中不產生不勻，并且減少對下一工序的影響，提高產品成品率。

本發明是一種藥液涂敷方法，用于向沿一定方向按一定速度行進的基板涂敷藥液，從與所述基板表面相對配置的下滴噴嘴向所述基板表面下滴藥液，使用第1藥液抑止部件和第2藥液抑止部件這兩級使向所述基板表面的上流側流動的所述藥液抑止，其中，所述第1藥液抑止部件被設置在比所述下滴噴嘴的位置靠近相對于所述基板的行進方向的上流側位置，所述第2藥液抑止部件被設置在比所述第1藥液抑止部件更靠近相對于行進方向的上流側位置。