[發明專利]有源矩陣基板的制造方法

有效

• 申請號: 02140946.3
• 申請日: 2002-07-11
• 公開（公告）號: CN1397830A
• 公開（公告）日: 2003-02-19
• 發明（設計）人: 中田慎一;山本勇司;石野隆行
• 申請（專利權）人: 日本電氣株式會社
• 主分類號: G02F1/136
• 分類號: G02F1/136;G03F7/00
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 穆德駿,關兆輝

1.一種用來制造有源矩陣基板的方法，該方法包括下述步驟：

在透明的絕緣基板上形成薄膜晶體管以及線路；

在所述的透明絕緣基板上形成覆蓋所述的薄膜晶體管和所述的線路的保護膜；

在露出的所述保護膜上形成第一感光膜，所述的第一感光膜有第一開口，使所述保護膜的所述第一區域的某個部分暴露出來；

在第一感光膜上形成帶有位于所述的第一開口之內的第二開口的第二感光膜，使所述的保護膜的某個部分暴露出來；

通過使用所述的第二感光膜作為光刻掩膜，使所述第三開口的邊緣與所述第一開口的內壁隔開的距離等于至少所述第二感光膜的薄膜厚度，從而除去所述保護膜的那個部分，使所述線路的一部分暴露出來，進而在所述保護膜上形成第三開口；

除去所述的第二感光膜，使所述的第一感光膜暴露出來；

在所述的第一感光膜上形成導電膜，以便通過所述的第三開口連接到所述的線路上；以及

在所述的導電膜中形成圖案，以便形成由所述的導電膜制成的上層線路。

2.根據權利要求1的制造有源矩陣基板的方法，其中所述的第二感光膜的厚度在1.5微米到4.0微米的范圍內。

3.根據權利要求1的制造有源矩陣基板的方法，其中所述的第一感光膜是這樣形成的：把第一感光膜涂在所述的保護膜上；讓所述的第一感光膜曝光和顯影；作為中間的烘烤步驟將所述的第一感光膜在120至160°的溫度下烘烤3至10分鐘；以及在用來形成所述的第一感光膜的步驟中作為后烘烤步驟將所述的第一感光膜在220至230°的溫度下烘烤。

4.根據權利要求1的制造有源矩陣基板的方法，其中所述的第一感光膜是這樣形成的：對所述的保護膜的表面進行處理，使所述的第一感光膜更好地粘附到所述保護膜的所述表面上，然后在用來形成所述的第一感光膜的步驟中，在所述保護膜上形成所述的保護性的第一感光膜。

5.根據權利要求1的制造有源矩陣基板的方法，其中所述的第二感光膜是這樣形成的：對所述的透明的絕緣基板進行處理，使所述的第二感光膜更好地粘附到所述的保護膜上，所述保護膜的所述表面通過所述第一開口露在外面，然后在用來形成所述第二感光膜的步驟中，在所述的第一感光膜上形成所述保護性的第二感光膜。

6.根據權利要求1的制造有源矩陣基板的方法，其中所述第二感光膜是這樣形成的：把酚醛清漆型感光膜涂在所述的第一感光膜上；讓所述的酚醛清漆型感光膜曝光和顯影；以及將所述的酚醛清漆型感光膜在20至120°的溫度下加熱3至10分鐘，以便在用來形成所述第二感光膜的步驟中，在所述第二開口中形成錐形的側表面。

7.根據權利要求1的制造有源矩陣基板的方法，其中所述的第二感光膜上這樣形成的：改變光線的輻照量，讓所述的第二感光膜的一部分曝光，其中所述部分對應于后來形成的第二開口，借此在用來形成所述的第二感光膜的步驟中，在把所述的酚醛清漆型感光膜涂在所述的第一感光膜上之后，在所述第二開口中形成錐形的側表面。

8.根據權利要求1的制造有源矩陣基板的方法，其中所述的第二感光膜上這樣形成的：把酚醛清漆型感光膜涂在所述的第一感光膜上；讓所述的酚醛清漆型感光膜曝光和顯影；以及讓所述的第二感光膜在減壓條件下干燥，使包含在所述第二感光膜中的溶劑蒸發。

9.根據權利要求1的制造有源矩陣基板的方法，

其中所述的線路包括柵極、柵極線路、公用線路、源/漏極和公用電極，其中所述柵極構成柵極線路的一部分，所述的公用電極被接到與所述柵極線路一起形成的所述公用線路上，所述第三開口是在所述的源/漏極上形成的；以及

其中所述的上層線路包括經所述的第三開口接到所述的源/漏極上的象素電極，以及經在所述的公用線路上形成的、平行于所述的象素電極、并且與所述的象素電極隔開預定的距離設置的另一個第三開口，接到所述的公用線路上的公用電極。

10.根據權利要求1的制造有源矩陣基板的方法，其中在所述的保護膜上有選擇地形成彩色濾光片，為的是在所述的用來形成覆蓋在所述的透明絕緣基板上的所述薄膜晶體管和所述線路的保護膜的步驟、以及所述的用來在所述保護膜上形成第一感光膜的步驟之間，讓在所述線路上的所述保護膜的第一區域暴露出來。