[發明專利]一種具有熒光發射特性的有序介孔氧化鋯材料的制備方法

無效

• 申請號: 02136704.3
• 申請日: 2002-08-28
• 公開（公告）號: CN1398820A
• 公開（公告）日: 2003-02-26
• 發明（設計）人: 陳航榕;施劍林;嚴東生
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海硅酸鹽研究所
• 主分類號: C04B35/48
• 分類號: C04B35/48;C01G25/02
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 潘振甦

1.一種具有熒光發射特性的有序介孔氧化鋯材料的制備方法，包括室溫攪拌反應、水熱處理、干燥、磷酸溶液后處理和最終熱處理工藝過程，其特征在于：

(1)表面活性劑與鋯源的摩爾比為0.25-0.30；

(2)在攪拌反應和水熱處理兩個過程中間，增加陳化處理過程。

2.按權利要求1所述的一種具有熒光發射特性的有序介孔氧化鋯材料的制備方法，其特征在于所述的表面活性劑溶于去離子水的濃度為0.5-1M；種類為十六烷基三甲基溴化胺或十六烷基三甲基氯化銨，或長鏈(十六、十八)烷基磷酸鈉或長鏈(十六、十八)烷基硫酸或長鏈(十六、十八)烷基璜酸。

3.按權利要求1所述的一種具有熒光發射特性的有序介孔氧化鋯材料的制備方法，其特征在于所述的含鋯離子的化合物如：ZrSO₄·4H₂O、Zr(NO₃)₄或丙醇鋯，溶于去離子水，配置成0.4-0.8M的含鋯離子的溶液。

4.按權利要求1、2或3所述的一種具有熒光發射特性的有序介孔氧化鋯材料的制備方法，其特征在于表面活性劑與鋯源的混合溶液在40-50℃下進行反應過程中的攪拌處理。

5.按權利要求1所述的一種具有熒光發射特性的有序介孔氧化鋯材料的制備方法，其特征在于水熱處理條件為100-110℃，處理40-48h。

6.按權利要求1所述的一種具有熒光發射特性的有序介孔氧化鋯材料的制備方法，其特征在于干燥后試樣用0.25M-1.25M濃度的磷酸溶液，后處理1-4小時，最終在流動空氣中于450-550℃，煅燒6-10小時。