[發(fā)明專(zhuān)利]導(dǎo)電薄膜用的合金靶材及制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 02132251.1 | 申請(qǐng)日： | 2002-09-03 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1480554A | 公開(kāi)（公告）日： | 2004-03-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張毅;趙勤孝;黃添旺;陳虹樺 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 錸寶科技股份有限公司;光洋應(yīng)用材料科技股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C23C14/14 | 分類(lèi)號(hào)： | C23C14/14;C23C14/34;C22C5/06 |
| 代理公司： | 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 周?chē)?guó)城 |
| 地址： | 臺(tái)灣省*** | 國(guó)省代碼： | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 搜索關(guān)鍵詞： | 導(dǎo)電 薄膜 合金 制作方法 | ||
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 透明導(dǎo)電膜用靶、透明導(dǎo)電材料、透明導(dǎo)電玻璃及透明導(dǎo)電薄膜
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- 導(dǎo)電糊劑及導(dǎo)電圖案
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- 導(dǎo)電型材和導(dǎo)電裝置
- 透明導(dǎo)電膜用靶、透明導(dǎo)電材料、透明導(dǎo)電玻璃及透明導(dǎo)電薄膜
