[發(fā)明專利]一種銅電解液凈化除雜質(zhì)的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 02129694.4 | 申請(qǐng)日: | 2002-09-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN1400333A | 公開(公告)日: | 2003-03-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 肖炳瑞;蘇中府;李貽煌;龍子平;黃明金;陳漢春;趙向明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江西銅業(yè)股份有限公司貴溪冶煉廠 |
| 主分類號(hào): | C25C1/12 | 分類號(hào): | C25C1/12 |
| 代理公司: | 中國(guó)有色金屬工業(yè)專利中心 | 代理人: | 李迎春,王連發(fā) |
| 地址: | 335424 江西省*** | 國(guó)省代碼: | 江西;36 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電解液 凈化 雜質(zhì) 方法 | ||
(一)所屬技術(shù)領(lǐng)域
一種銅電解液凈化除雜質(zhì)的方法,涉及有色金屬濕法冶金過(guò)程中電解液凈化除雜的方法,特別是銅電解液凈化除銻、鉍的方法。
(二)背景技術(shù)
在粗銅可溶性陽(yáng)極電解精煉時(shí),由于Sb、Bi的氧化還原電位與Cu接近,當(dāng)這些雜質(zhì)在電解液中積累到一定的濃度時(shí),就可能和銅一起在陰極上還原析出,降低陰極銅的質(zhì)量。另外,Sb、Bi還易與As形成漂浮陽(yáng)極泥,電解液中的Sb、Bi的濃度越高,形成漂浮陽(yáng)極泥的可能性越大,從而污染電解液,也降低陰極銅的質(zhì)量。它們是電解銅過(guò)程中最有害的雜質(zhì)。因此,凈化除去銻、鉍這些有害雜質(zhì),使之在控制范圍內(nèi),是保證陰極銅質(zhì)量的重要措施之一。
在電解精煉時(shí)存在于陽(yáng)極銅中的雜質(zhì)銻、鉍一部分溶解進(jìn)入電解液中,另一部分則進(jìn)入陽(yáng)極泥中。目前凈化除去電解液中Sb、Bi的方法有常規(guī)電積法、離子交換法、溶劑萃取法、碳酸鋇沉淀法等。采用這些方法會(huì)對(duì)電解液產(chǎn)生一定的副作用。而且需要很大的固定資產(chǎn)投資,除雜成本高。采取離子交換法和溶劑萃取法時(shí),會(huì)引入不少Na、Cl等新雜質(zhì)和有機(jī)物進(jìn)入電解液中,而污染電解液;而常規(guī)電積法又會(huì)大量損失大量的Cu,使系統(tǒng)的銅、酸難以保持平衡。在大型銅電解生產(chǎn)企業(yè),由于處理的銅精礦量大,精礦來(lái)源復(fù)雜,由于原料的復(fù)雜性,常常使得精礦中的Sb、Bi的含量同時(shí)都高,其結(jié)果也導(dǎo)致陽(yáng)極銅中Sb、Bi的含量同時(shí)都高。這種陽(yáng)極進(jìn)入銅電解后,在以往控制的電解工藝條件下,陽(yáng)極銅中Sb、Bi在電解液中的溶出率非常高,需要一套龐大的電解液凈化系統(tǒng)和較大的凈液量才能滿足除雜的要求。為了保證陰極銅質(zhì)量,一些生產(chǎn)工藝采用了以常規(guī)電積法脫As、Sb、Bi為主的凈化工藝,同時(shí)還采取了碳酸鋇共沉淀法來(lái)彌補(bǔ)脫Bi量的不足。此工藝存在以下三大缺陷:一是為了滿足除Sb、Bi的要求,常規(guī)電積法需要的凈液量較大,導(dǎo)致電解液中的銅、酸不平衡,為了維持電解液中的銅酸平衡,又需要建一套硫酸銅生產(chǎn)系統(tǒng),把生產(chǎn)出來(lái)的粗硫酸銅全部重溶后返回電解系統(tǒng)。二是由于常規(guī)電積需要的凈液量較大,導(dǎo)致電解液過(guò)度脫砷,使電解液中的砷濃度嚴(yán)重偏低,再加上陽(yáng)極銅中As與Sb+Bi的比值偏低,使得陽(yáng)極銅中Sb、Bi在電解液中的溶出率非常高。三是此工藝雜質(zhì)的綜合脫除率較低。由于存在以上三大缺陷,為了使電解液中的銻、鉍和銅、酸同時(shí)都保持平衡,需要不斷地?cái)U(kuò)大凈液能力和增大凈液量,造成電解液凈化工藝過(guò)長(zhǎng)。系統(tǒng)龐大,雖然能抑制電解液中銻、鉍的增長(zhǎng),但勢(shì)必要不斷地增加基建投資,脫除雜質(zhì)所需的費(fèi)用也需大幅度地增加,而使陰極銅生產(chǎn)成本不斷地上升。
(三)發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述已有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)和不足,提供一種具有工藝簡(jiǎn)單,操作方便,效果顯著等優(yōu)點(diǎn)的一種銅電解液凈化除雜質(zhì)的方法。
本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的。
一種銅電解液凈化除雜質(zhì)的方法,其特征在于在銅電解液中加入高砷溶液,將電解液含As濃度維持為10g/L-15g/L,使電解液中絕大部分雜質(zhì)Sb、Bi與As形成過(guò)飽和砷酸銻和砷酸鉍結(jié)晶物質(zhì)進(jìn)入陽(yáng)極泥中而除去。
一種電解液凈化除銻、鉍的方法,其特征在于加入高砷溶液中的As與電解液中的Sb+Bi的重量比為As∶Sb+Bi=1.3-2.2∶1。
一種電解液凈化除銻、鉍的方法,其特征在于所加入的高砷溶液是砷酸銅溶液、砷酸溶液、亞砷酸溶液。
本發(fā)明的方法根據(jù)實(shí)施前的電解液的初始含As濃度、高砷溶液含As濃度等因素,確定高砷溶液的加入量。當(dāng)電解液含砷濃度達(dá)到11g/L左右時(shí),電解液中的Sb、Bi濃度便會(huì)開始下降,并一直降低到250mg/L以下,此時(shí)便可停止加高砷溶液。對(duì)含砷量適宜的銅陽(yáng)極電解過(guò)程以后靠陽(yáng)極本身的As就能維持電解液中砷的平衡,不需再加入高砷溶液。電解液含砷濃度為11g/L-15g/L,脫除1kgSb+Bi用As量為1.3-2.1kg.
本發(fā)明的方法,是采用在電解液中加入高砷溶液,提高電解液含As濃度,當(dāng)維持電解液含As深度達(dá)到一定濃度范圍時(shí),陽(yáng)極和電解液中絕大部分雜質(zhì)Sb、Bi便會(huì)進(jìn)入陽(yáng)極泥中,而幾乎不會(huì)進(jìn)入電解液中,達(dá)到超前自凈化脫除雜質(zhì)的目的,其銅電解工藝維持不變,方法簡(jiǎn)單易行,具有很好的經(jīng)濟(jì)性。
采用本發(fā)明的方法,對(duì)于有一定砷含量的陽(yáng)極在首次將電解液中的As濃度調(diào)到位以后,可以靠陽(yáng)極中的As來(lái)維持平衡,如不夠,再用高砷溶液來(lái)補(bǔ)充。本發(fā)明利用As、Sb、Bi在電解這個(gè)特定的氧化-還原環(huán)境下,通過(guò)價(jià)位的轉(zhuǎn)換及溶度積的關(guān)系,形成過(guò)飽和砷酸銻和砷酸鉍結(jié)晶物質(zhì)進(jìn)入陽(yáng)極泥中。它取代了傳統(tǒng)的溶液凈化除Sb、Bi的方法,具有工藝簡(jiǎn)單,操作方便,效果顯著等優(yōu)點(diǎn)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于江西銅業(yè)股份有限公司貴溪冶煉廠,未經(jīng)江西銅業(yè)股份有限公司貴溪冶煉廠許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/02129694.4/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





