[發明專利]在靶上注入離子的裝置及其方法無效
| 申請號： | 02127714.1 | 申請日： | 2002-08-08 |
| 公開（公告）號： | CN1405836A | 公開（公告）日： | 2003-03-26 |
| 發明（設計）人： | 山下貴敏 | 申請（專利權）人： | 日新電機株式會社 |
| 主分類號： | H01J37/317 | 分類號： | H01J37/317;H01L21/265;C23C14/48 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人： | 李曉舒,魏曉剛 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 注入 離子 裝置 及其 方法 | ||
【說明書】：
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