[發(fā)明專利]光盤及其制造方法、驅(qū)動(dòng)裝置以及制造中所使用的壓模無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 02126871.1 | 申請日: | 2002-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN1400587A | 公開(公告)日: | 2003-03-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 飯?zhí)锉?/a> | 申請(專利權(quán))人: | 日立麥克賽爾株式會(huì)社 |
| 主分類號: | G11B7/00 | 分類號: | G11B7/00;G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司: | 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 谷惠敏,光兆輝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光盤 及其 制造 方法 驅(qū)動(dòng) 裝置 以及 使用 | ||
1.一種光盤,在徑向上交替錯(cuò)開配置有:凸區(qū),使包含地址信息的頭部記錄區(qū)在徑向偏轉(zhuǎn)而進(jìn)行記錄;凹區(qū),相對于上述凸區(qū)具有高度差而配置,包含記錄數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)記錄區(qū),
其特征在于,
在徑向上配置的各個(gè)上述凸區(qū)上,沿圓周方向交替錯(cuò)開配置上述頭部記錄區(qū),同時(shí)上述凹區(qū)的上述數(shù)據(jù)記錄區(qū)和上述凸區(qū)的上述頭部記錄區(qū)在圓周方向上交替錯(cuò)開配置,上述頭部記錄區(qū)對于與上述凸區(qū)的兩側(cè)相鄰的上述凹區(qū),重放相同的地址信息。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤,其特征在于,記錄在上述頭部記錄區(qū)的標(biāo)記的前沿的傾斜和后沿的傾斜不同,傾斜的不同與數(shù)據(jù)信息的記錄相對應(yīng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤,其特征在于,在交替錯(cuò)開配置于上述圓周方向上的各頭部記錄區(qū)之間,具有在徑向上相互不交叉的區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光盤,其特征在于,在上述徑向上相互不交叉的區(qū)域內(nèi),形成用于讀出同步信號的標(biāo)記。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光盤,其特征在于,上述凸區(qū)的徑向?qū)挾刃∮?.30μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤,其特征在于,相對于用于記錄和/或重放上述數(shù)據(jù)的光束的入射面,上述凹區(qū)配置在比上述凸區(qū)更近的位置上。
7.一種格式化光盤凹區(qū)的方法,其中上述光盤在徑向上交替錯(cuò)開配置有:凸區(qū),使包含地址信息的頭部記錄區(qū)在徑向偏轉(zhuǎn)而進(jìn)行記錄;凹區(qū),相對于上述凸區(qū)具有高度差而配置,包含記錄數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)記錄區(qū),在徑向上配置的各個(gè)上述凸區(qū)上,沿圓周方向交替錯(cuò)開配置上述頭部記錄區(qū),同時(shí)上述凹區(qū)的上述數(shù)據(jù)記錄區(qū)和上述凸區(qū)的上述頭部記錄區(qū)在圓周方向上交替錯(cuò)開配置,上述頭部記錄區(qū)對于與上述凸區(qū)的兩側(cè)相鄰的上述凹區(qū),重放相同的地址信息,
其特征在于,包括以下步驟:
寫入不同的上述各凸區(qū)的上述地址信息的步驟;以及
將上述地址信息和具有該地址信息的上述凸區(qū)位于上述凹區(qū)的哪一側(cè)的左右信息組合起來,進(jìn)行上述凹區(qū)的定址步驟。
8.一種識(shí)別光盤地址的方法,其中上述光盤在徑向上交替錯(cuò)開配置有:凸區(qū),使包含地址信息的頭部記錄區(qū)在徑向偏轉(zhuǎn)而進(jìn)行記錄;凹區(qū),相對于上述凸區(qū)具有高度差而配置,包含記錄數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)記錄區(qū),在徑向上配置的各個(gè)上述凸區(qū)上,沿圓周方向交替錯(cuò)開配置上述頭部記錄區(qū),同時(shí)上述凹區(qū)的上述數(shù)據(jù)記錄區(qū)和上述凸區(qū)的上述頭部記錄區(qū)在圓周方向上交替錯(cuò)開配置,上述頭部記錄區(qū)對于與上述凸區(qū)的兩側(cè)相鄰的上述凹區(qū),重放相同的地址信息,
其特征在于,包括以下步驟:
檢測不同的上述各凸區(qū)的上述地址信息的步驟;
判斷是否從位于上述凹區(qū)的左側(cè)或右側(cè)的上述凸區(qū)讀取可由用于在上述凹區(qū)記錄和/或重放上述數(shù)據(jù)的光束進(jìn)行讀取的上述地址信息的步驟;以及
利用上述地址信息和上述左右信息的檢測結(jié)果,識(shí)別上述凹區(qū)的地址的步驟。
9.一種壓模,在徑向上交替錯(cuò)開配置有:凸區(qū),使包含地址信息的頭部記錄區(qū)在徑向偏轉(zhuǎn)而進(jìn)行記錄;凹區(qū),相對于上述凸區(qū)具有高度差而配置,
其特征在于,
在徑向上配置的各個(gè)上述凸區(qū)上,沿圓周方向交替錯(cuò)開配置上述頭部記錄區(qū),同時(shí)上述頭部記錄區(qū)對于與上述凸區(qū)的兩側(cè)相鄰的上述凹區(qū),重放相同的地址信息。
10.一種光盤制造方法,包含通過壓模復(fù)制光盤基板的信息面的工序,
其特征在于,
上述壓模是原盤,在原盤制造工序中,使用在徑向上可以偏轉(zhuǎn)的一條光束,偏轉(zhuǎn)曝光頭部信息,并且使相鄰的各個(gè)頭部信息記錄區(qū)在圓周方向上錯(cuò)開而記錄該頭部信息,從而制造原盤。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光盤制造方法,其特征在于,使用EO偏轉(zhuǎn)元件進(jìn)行上述光束的偏轉(zhuǎn),使施加在上述EO偏轉(zhuǎn)元件的電極上的電壓的脈沖波形上升時(shí)和下降時(shí)的時(shí)間傾斜隨著信息內(nèi)容而變化,從而記錄信息。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光盤的制造方法,其特征在于,通過包含上述EO偏轉(zhuǎn)元件的電路的時(shí)間常數(shù)來控制驅(qū)動(dòng)上述EO偏轉(zhuǎn)元件的脈沖信號的時(shí)間傾斜。
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