[發(fā)明專利]電場發(fā)光顯示裝置的制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 02125165.7
• 申請日: 2002-06-28
• 公開（公告）號: CN1395452A
• 公開（公告）日: 2003-02-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 山田努;西川龍司;大今進
• 申請（專利權(quán)）人: 三洋電機株式會社
• 主分類號: H05B33/10
• 分類號: H05B33/10;G09F9/30
• 代理公司: 北京紀(jì)凱知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 戈泊,王初

1.一種電場發(fā)光顯示裝置的制造方法，其將基板與配置在該基板下方的屏蔽予以位置對準(zhǔn)，且透過前述屏蔽使電場發(fā)光組件材料吸著形成于前述基板而形成顯示裝置的顯示部，其特征在于：

預(yù)先將前述屏蔽固定于保持臺上所配置的屏蔽框架，并且在該等保持臺及屏蔽框架的至少一方先形成用以支持前述基板的多個銷，而在由該銷支持住前述基板的狀態(tài)下進行前述位置對準(zhǔn)。

2.如權(quán)利要求1所述的電場發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于：以相對于前述基板面保持對稱性的狀態(tài)配置前述銷。

3.如權(quán)利要求1或2的電場發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于：使前述銷可在垂直方向上伸縮。

4.如權(quán)利要求3所述的電場發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于：使前述銷至少收縮至前述屏蔽的高度，且在前述位置對準(zhǔn)完成后使該銷收縮至前述屏蔽的高度。

5.如權(quán)利要求1至4任一項所述的電場發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于：對于利用前述銷加以支持的基板的3個以上的邊再以邊支持機構(gòu)支持該等各邊，而在此狀態(tài)下進行前述位置對準(zhǔn)。

6.如權(quán)利要求1至5任一項所述的電場發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于：至少前述位置對準(zhǔn)系在真空容器內(nèi)進行。

7.如權(quán)利要求6所述的電場發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于：在將利用前述銷加以支持的基板上面再以靜電吸著予以支持的狀態(tài)下，進行前述位置對準(zhǔn)。