[發明專利]真空排污系統無效
| 申請號: | 02123273.3 | 申請日: | 2002-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN1392313A | 公開(公告)日: | 2003-01-22 |
| 發明(設計)人: | V·拉帕萊寧 | 申請(專利權)人: | 埃瓦克國際有限公司 |
| 主分類號: | E03D5/00 | 分類號: | E03D5/00;E03F1/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 崔幼平,楊松齡 |
| 地址: | 芬蘭赫*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空 排污 系統 | ||
1.一種真空排污系統,其包括污物源(2);一包括第一排污管(31)和第二排污管(32)的排污管道(3);布置在所述污物源和所述第一排污管之間的一帶有出口(22)的第一排污閥(21);布置在所述第一排污管和所述第二排污管之間的第二排污閥(23);以及在所述排污管道(3)中用于提供真空的真空發生裝置(36),其特征在于,所述第一排污管道(31)提供一用于污物的中間接收器。
2.如權利要求1所述的真空排污系統,其特征在于,在第一排污管的第一排污閥(21)端部處,所述第一排污管(31)設置有第三閥裝置(24)。
3.如權利要求1或2所述的真空排污系統,其特征在于,一管部(34)布置在所述第一排污閥的下游,該管部的直徑大于第一排污閥(21)的出口(22)的直徑。
4.如權利要求3所述的真空排污系統,其特征在于,具有較大直徑的所述管部包括一位于第一排污閥(21)的出口(22)和第一排污管(31)之間的第一管接頭(34)。
5.如權利要求4所述的真空排污系統,其特征在于,第一管接頭(34)設置有第三閥裝置(24)。
6.如權利要求1所述的真空排污系統,其特征在于,該系統包括第三排污管(33),該排污管在所述第一排污管的第一排污閥(21)端部處與第一排污管(31)流體相通。
7.如權利要求6所述的真空排污系統,其特征在于,所述第三排污管(33)連接于該第一管接頭(34)。
8.如權利要求6所述的真空排污系統,其特征在于,所述第三排污管(33)在與所述第三排污管的第一排污閥(21)端部相對的端部處設置有第三閥裝置(24)。
9.如上述權利要求中任一項所述的真空排污系統,其特征在于,該系統設置有壓力平衡裝置(37),該裝置在所述第二排污閥(23)的相對兩側分別連接于所述第一排污管(31)和所述第二排污管(32)。
10.如上述權利要求中任一項所述的真空排污系統,其特征在于,該系統設置有控制中心(4),該控制中心包括第一排污閥(21)、第二排污閥(23)和第三閥裝置(24)的控制裝置。
11.如權利要求10所述的真空排污系統,其特征在于,該第一排污閥(21)、第二排污閥(23)和/或第三閥裝置(24)是真空啟動閥;并且該控制中心(4)與真空發生裝置(36)產生的真空、以及與第一排污閥(21)、第二排污閥(23)和/或第三閥裝置(24)流體相通。
12.如權利要求11所述的真空排污系統,其特征在于,該控制中心(4)經壓力平衡裝置(37)在流體上與真空發生裝置(36)產生的真空相通。
13.如權利要求11或12所述的真空排污系統,其特征在于,該控制中心(4)與真空發生裝置(36)產生的真空、以及與第一排污閥(21)、第二排污閥(23)和/或第三閥裝置(24)之間的流體連通由管道(41、42、43、44)提供。
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