[發明專利]一種用于交換柱的流體分流機構

有效

• 申請號: 02120447.0
• 申請日: 2002-05-22
• 公開（公告）號: CN1391970A
• 公開（公告）日: 2003-01-22
• 發明（設計）人: E·菲爾;A·福斯特;M·菲舍爾
• 申請（專利權）人: 蘇舍化學技術有限公司
• 主分類號: B01D3/00
• 分類號: B01D3/00;B01D53/18
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 林長安

技術領域

本發明涉及一種用于交換柱的流體分流機構，其具有主通道，多個第二通道和所述主通道的流出系統。待分流的流體可以通過所述流出系統以預定的比例流入所述第二通道；還涉及具有這種流體分流機構的交換柱，所述交換柱用于在充填物上流動的液流和氣流之間的物質交換。

背景技術

對于高效率的交換柱來說，必須防止流體出現不正常分配，即液體以均勻分布的方式在充填物的內側表面上慢慢滴落。為了不出現不正常分配，流體必須以平均和非常精確的分配灌入充填物中。這可以通過適當設計的流體分配機構來實現，通過這種分配機構，流體經通道系統和流出系統分配到充填物中。

在已知的被稱之為“單元分配器(element?distributor)”的流體分配機構中，通道系統包括主通道和多個設置在主通道之下的第二通道。待分配的流體通過主通道的流出系統以預先設定的比例輸送到第二通道。該比例通常等于充填物表面與第二通道相連部分面積和與這部分面積成一定比例進行分配的流體之間的比例。流體通過第二通道的流出系統離開分配機構。第二通道的流出系統可設置成帶有排出管路或沖擊板的多個側面開口，或具有多個底部開口。將進行改進的分配機構的主通道流出系統，一般包括具有底面開口的罩體狀腔室，將其設置在主通道底部上的相對于第二通道的矩形開口之上，腔室的底邊通常通過焊接密封連接到矩形開口的邊。這些腔室側壁上的孔允許流體從主通道流入相連的第二通道中。在流入過程中，產生激流場，其在第二通道的流出系統產生容易看見的令人不安的波動流動。對于主通道來說缺點在于罩體狀腔室限制了待分配的流體流通的通道的截面積，而且其結構由于要進行焊接而成本較高。

發明內容

本發明的目的是要提供一種價格適當的單元分配器型的流體分配機構，其中，從主通道的流體可不受阻礙地通過流出系統流出，并被引導流入第二通道，并可使流體平穩流動進入第二通道的流出系統。通過本發明的一種流體分配機構這個目的得到實現。

這種流體分配機構具有主通道，多個第二通道和所述主通道的流出系統。待分流的流體可以通過所述流出系統以預定的比例流入所述第二通道。所述流出系統包括在所述主通道側壁上的孔，和引導從孔中流出流體的并與所述第二通道相連的引導部件。設計用于引導流體的所述引導部件可使流體進入相連的所述第二通道。

根據本發明的流體分配機構的優選實施例包括所述各引導部件具有可引導流體的截面，所述截面在流動方向上變窄，引導流體基本上只影響速度水平分量，對所述第二通道方向上的速度分量沒有很大影響。

所述引導部件設置在與其相連的第二通道上，并最好通過可釋放的卡扣連接件(352，542)固定在所述第二通道的側壁上。

兩個引導部件(50，50’)以對稱的方式與各自的第二通道相連，或者，引導部件(50”)以偏置的方式與第二通道相連。

所述引導部件(50，50’)以鏡面對稱的方式形成和/或以相對所述第二通道(3)縱向的垂直平面不對稱的方式形成。

所述引導部件(50，50’，50”)各自用適當形狀的金屬片制成。

所述引導部件(50，50”)的頂部是封閉的。所述引導部件(50’)可在頂部開口。

還提出一種具有本發明的流體分流機構的交換柱。

附圖說明

下面通過附圖對本發明加以說明，其中：

圖1是一種已知的帶有主通道和第二通道的流體分配機構的簡圖；

圖2是根據本發明的流體分配機構的部分視圖；

圖3是交換柱上部的縱向截面圖；

圖4和5是本發明的流體分配機構的三個實施例的詳圖；

圖6是圖5所示類型的流體分配機構的平面圖；

圖7是引導部件和第二通道之間卡扣連接的詳圖。

具體實施方式

圖1所示簡化的流體分配機構是已知的單元分配器類型，其包括主通道2和頂部開口的第二通道3。圖中未顯示牢固地設置流體分配機構1所需的結構件。流體4以平均分配的方式通過第二通道3的流出系統30灌入充填物7(見圖3)，在所示的分配機構1中同樣未顯示可以想見的底部開口。

部分打開的壁部顯示出上面介紹的主通道2的流出系統。流出系統包括設置在主通道2底面開口之上的罩狀體腔室21。腔室的底邊與開口的邊密封連接?？?2允許流體4流出主通道2，流入與腔室21相連的第二通道3。