[發明專利]經線上漿機的漿濃度控制方法

有效

• 申請號: 02107029.6
• 申請日: 2002-03-08
• 公開（公告）號: CN1374420A
• 公開（公告）日: 2002-10-16
• 發明（設計）人: 山本剛
• 申請（專利權）人: 津田駒工業株式會社
• 主分類號: D06B23/28
• 分類號: D06B23/28
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 黃劍鋒

技術領域

本發明涉及在經線上漿機中通過補充規定供應比例的供應液來控制漿液的漿濃度的方法。

背景技術

特公昭46-39498號公報所公開的內容是，根據經線的線種，為了改變上漿裝制的漿液的漿濃度而改變漿原液和稀釋液的混合比例，并供應給上漿裝置。

在上述現有技術中，由于每次補充一定漿濃度的漿液，所以上漿裝置的漿液的漿濃度產生變化，不能對經線保持規定的上漿率。上漿裝置的漿液被用于提高漿液溫度而吹入的加熱蒸汽和經線含有的水分所稀釋，并且，由于因水分蒸發而產生濃縮，使漿的濃度發生變化。從而，由于每次補充一定漿濃度的漿液，所以不能修正漿濃度的變化，不能對經線保持規定的上漿率。

為了使上漿裝置的漿液保持目標漿濃度(D％)且保持一定的漿液量，有必要隨著片狀經線的通過補充從上漿裝置的漿槽中出來的漿量和水分量，因此，有必要補充按下述方法算出的濃度(％)的漿液，所述漿液的濃度(％)是由片狀經線所消耗的漿量(S×D100)除以從片狀經線所消耗的漿液量(S)中減去片狀經線和蒸汽從外部帶入的水分與蒸發的水分的差的水分量(W)所得的液量(S-W)，并乘以100而算出的。

應補充的漿液的濃度和應補充的漿液量由下面的公式表示。

應補充的漿液的濃度(％)＝S×D/(S-W)

應補充的漿液量＝S-W

在此，片狀經線和蒸汽從外部帶入的水分與蒸發的水分的差的水分量(W)由于工作條件(經線的經種、徑線的粗細、經線的移動速度、設定的漿液溫度等)而變化，因而，上式中應補充的漿液的漿濃度不是一定的。

發明內容

本發明的目的是，對于經線上漿機，在漿液補充之后也使漿液的漿濃度保持一定。

為了上述目的，本發明對于經線上漿機，在進行上漿裝置的漿液補充時，為了在補充漿液之后，仍保持漿濃度一定，檢測上漿裝置的漿液的漿濃度，根據檢測出的漿濃度求出不同漿濃度的多個供應液的供應比例，當上漿裝置的漿液減少時，通過向上漿裝置的漿液中補充所求供應比例的供應液，使上漿裝置的漿液接近目標漿濃度。

具體而言，本發明的經線上漿機的漿濃度控制方法，其特征為，包括：向片狀經線上漿的上漿裝置、可將不同漿濃度的多種供應液分別在各自的供應系統中分別供應給上漿裝置的供應裝置、檢測上漿裝置的漿液的漿濃度的漿濃度檢測器、檢測上漿裝置中漿液量的漿液量檢測器，

根據檢測出的漿濃度，求出接近目標漿濃度的各供應液的供應比例，同時，當前述漿液量減少到規定量時，補充前述供應比例的漿液。

在上述經線上漿機的漿濃度控制方法中，對一種供應液進行補充，直到下述狀態為止，即直到其它的供應液由供應系統中的補充量測定器測量補充量的同時進行補充后，上漿裝置的漿液量達到規定值為止。

在上述經線上漿機的漿濃度控制方法中，當檢測出的漿濃度脫離允許的范圍時，補充各供應液。

在上述經線上漿機的漿濃度控制方法中，前述經線上漿機配有水分施與裝置，在對片狀經線施與水分之后進行上漿，同時，前述供應液只有兩種，一種供應液是水，而另一種供應液是濃度比目標漿濃度高的漿液。

在上述經線上漿機的漿濃度控制方法中，前述另一種供應液的最低漿濃度是根據工作條件求出并表示的。

附圖說明

圖1是經線上漿機(水分施與裝置、上漿裝置、供應裝置、上漿干燥裝置、卷取軸)的側視圖。

圖2是補充控制裝置的流程線圖。

圖3是另一種供應裝置的側視圖。

具體實施方式

圖1表示用于實施本發明的經線上漿機的漿濃度控制方法的經線上漿機1。經線上漿機1為了以規定的上漿率對片狀經線2上漿，除了水分施與裝置3、上漿裝置4、上漿干燥裝置5、作為卷取裝置的卷取軸31之外，還配有供給裝置6。

水分施與裝置3具有用于將片狀經線2浸入水7中并向經線中施與水分的、在水分施與用水槽8內浸入水7中的水分施與輥9、和用于在施與水分之后從經線2中擠出多余的水分的一對擠壓輥12。片狀經線2被導向輥11導向，與水分施與輥9接觸，在水槽8內浸入60℃以上，優選為80-90℃左右的水7后，從一對擠壓輥12之間通過。

在一對擠壓輥12中，下方的擠壓輥12在水槽8內浸入水7中，上方的擠壓輥12通過擠壓力調節裝置13的擠壓力而以規定的擠壓力與下方的擠壓輥12接觸，從經線2中擠出過剩的水分。這時，經線2的水分通過擠壓而整體上均勻的附著到片狀經線2上，同時，深深地浸透至經線2的纖維內部。從而，水分施與裝置3對片狀經線2進行水分施與處理。