[發明專利]曝光方法及曝光裝置

無效

• 申請號: 02106809.7
• 申請日: 2002-03-05
• 公開（公告）號: CN1374561A
• 公開（公告）日: 2002-10-16
• 發明（設計）人: 堀和彥
• 申請（專利權）人: 尼康株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳專利商標事務所
• 代理人: 王學強

1.一種曝光方法，適用于在一基板上接合一圖案并曝光出所希望圖案，其特征為：該方法包括：

進行一預備曝光工藝以于該基板上曝光出與該圖案不同的一第一標記與一接合圖案；以及

進行一設定工藝，該設定工藝根據曝光于該基板上的該第一標記與該圖案間的相對位置關系，設定曝光該接合圖案時的補正量。

2.如權利要求1所述的曝光方法，其特征為：其中包括于每個該接合圖案上曝光出該第一標記。

3.如權利要求2所述的曝光方法，其特征為：其中該圖案具有以一設定間距排列的一單位圖案；以及

該第一標記對應該設定間距而排列。

4.如權利要求1所述的曝光方法，其特征為：其中包括重疊曝光該第一標記與該圖案。

5.如權利要求1所述的曝光方法，其特征為：其中該圖案為一負片圖案則該第一標記為一正片圖案；該第一標記為該負片圖案則該圖案為該正片圖案。

6.如權利要求1所述的曝光方法，其特征為：其中該基板上形成有復數層的圖案，且該圖案為形成于第一層的圖案。

7.如權利要求1所述的曝光方法，其特征為：其中該第一標記形成于罩幕的中央。

8.如權利要求1所述的曝光方法，其特征為：其中該接合圖案是由相同圖案所構成。

9.一種曝光裝置，適用于在一基板上接合一圖案以曝光出所希望圖案，其特征為：該裝置包括：

一存儲裝置，該存儲裝置可根據該基板上所曝光的與該圖案不同的一第一標記與一接合圖案之間的相對位置關系，存儲曝光該接合圖案時的補正量；以及

一補正裝置，該補正裝置可根據存儲于該存儲裝置內的補正量于該基板上接合該圖案。