[發明專利]二對甲苯基二烷基硅烷衍生物和由其生成的光致發光聚合物以及制備這些化合物的方發有效
| 申請號: | 02105771.0 | 申請日: | 1998-01-09 |
| 公開(公告)號: | CN1379054A | 公開(公告)日: | 2002-11-13 |
| 發明(設計)人: | 金煥圭;李秀敏;柳美景;金麒東 | 申請(專利權)人: | 三星電管株式會社 |
| 主分類號: | C08G77/00 | 分類號: | C08G77/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 劉明海 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 甲苯 烷基 硅烷 衍生物 生成 光致發光 聚合物 以及 制備 這些 化合物 | ||
1、一種下式(2)表示的光致發光聚合物,其含有在共軛的雙鍵之間包含硅的重復單元,
R1和R2分別選自苯基和-(CH=CH)kR3,其中k是0,R3是氫或烷基,R4選自氫、未取代的或取代的脂族烴基、未取代的或取代的芳族烴基,n是1-100的整數。
2、權利要求1的光致發光聚合物,其中重均分子量在1000-20000。
3、權利要求1的光致發光聚合物,其中是苯,R1和R2是苯基。
4、權利要求1的光致發光聚合物,其中是N-烷基咔唑,R1和R2是苯基。
5、權利要求1的光致發光聚合物,其中是噻吩,R1和R2是苯基。
6、一種制備式(2)光致發光聚合物的方法,該方法包括下列步驟:(a)式(1)的二對甲苯基二烷基硅烷衍生物與三苯基膦反應,生成相應的鏻鹽(D);和
(b)所得的鏻鹽(D)與二醛基化合物(E)反應,其中
R1和R2分別選自苯基和-(CH-CH)kR3,其中k是0,R3是氫或烷基,X2選自氫、鹵原子或氰基,R4選自氫、未取代的或取代的脂族烴基、未取代的或取代的芳族烴基,n是1-100的整數。??
7、權利要求6的方法,其中重均分子量在1000-20000。
8、權利要求6的方法,其中是苯,R1和R2是苯基。
9、權利要求6的方法,其中是N-烷基咔唑,R1和R2是苯基。
10、權利要求6的方法,其中是噻吩,R1和R2是苯基。
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