[發明專利]組合的掩模與使用該掩模制造有機電致發光裝置的方法和設備

有效

• 申請號: 02105638.2
• 申請日: 2002-01-31
• 公開（公告）號: CN1378408A
• 公開（公告）日: 2002-11-06
• 發明（設計）人: 藤森茂雄;北村義之;金森浩充;池田武史;岡哲雄
• 申請（專利權）人: 東麗株式會社
• 主分類號: H05B33/10
• 分類號: H05B33/10;C23C14/04;G09F9/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 梁永

1.一種組合掩模，包括：

多個沉積掩模，每個具有沉積縫隙陣列的沉積掩模相應于沉積圖案形成；和

在具有多個開口的基板上沉積掩模被排列，

其中沉積掩模通過接合單元以可脫離的方式被保持到基板上，和

其中用來在基板上定位沉積掩模的對準標記被形成在基板上。

2.根據權利要求1的組合掩模，其中當施加外力時，接合單元脫離沉積掩模。

3.用于根據權利要求1的組合掩模的制造設備，包括：

支承基板的臺；

沉積掩模保持和移動單元，其相對基板保持沉積掩模和自由地移動沉積掩模；

定位系統，其檢測基板和沉積掩模的對準標記或參考位置，并且使用沉積掩模保持和移動單元調整在基板和沉積掩模之間的相對位置；和

分離單元，其分離沉積掩模和基板。

4.用于根據權利要求1的組合掩模的制造方法，包括步驟：

在臺上支承基板，在基板上沉積掩模被放置；

檢測基板和沉積掩模的對準標記或參考位置；和

通過相對基板保持和移動沉積掩模，調整在基板和沉積掩模之間的相對位置；和

在調整相對位置的步驟后使用接合單元來把沉積掩模保持在基板上。

5.一種有機EL裝置制造方法，包括步驟：

使用組合掩模的對準標記定位根據權利要求1的組合掩模和襯底，其將被在沉積室中進行沉積過程；和

使用組合掩模在沉積過程中形成薄膜層圖案，從而在單一襯底上形成n個有機EL裝置，其中n是等于或者大于2的整數。

6.根據權利要求5的有機EL裝置制造方法，其中組合掩模通過將m個沉積掩模保持在基板上被設置，其中m是在2到n范圍內的整數。

7.根據權利要求6的有機EL裝置制造方法，其中m和k滿足n＝m×k(k是在2到n范圍內的整數)。

8.根據權利要求5的有機EL裝置制造方法，其中薄膜層是發射層或金屬電極層。

9.一種有機EL裝置，通過根據權利要求5的有機EL裝置制造方法制造。

10.一種有機EL裝置制造設備，包括：

定位設備，用于定位根據權利要求1的組合掩模和襯底，該襯底將使用組合掩模的對準標記進行沉積過程；和

沉積設備，用于使用沉積掩模在沉積過程中圖案化薄膜層。