[發(fā)明專利]噴槍有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 02105334.0 | 申請日: | 2002-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN1397381A | 公開(公告)日: | 2003-02-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 內(nèi)維爾·托馬斯·佩蒂特;菲利普·約翰·梅里菲爾德 | 申請(專利權(quán))人: | ITW有限公司 |
| 主分類號: | B05B7/02 | 分類號: | B05B7/02;B05B7/08 |
| 代理公司: | 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 武玉琴,朱登河 |
| 地址: | 英國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 噴槍 | ||
1.一種噴槍,它包括主體,噴頭,要噴射液體的入口和提供壓縮空氣的入口;
所述噴頭包括氣帽,具有用于分配液體的噴嘴尖部的中空噴嘴和將所述氣帽和噴嘴固定到所述主體上的裝置;
所述氣帽具有中心孔和一個或多個橫向孔,通過所述中心孔引導(dǎo)霧化空氣以霧化從噴嘴尖部分配的液體從而形成噴霧,通過所述橫向孔引導(dǎo)扇形空氣以形成所期望的噴霧形式;
所述中空噴嘴具有徑向伸展的擋盤,它與主體的表面一起限定出用于容納和分配來自供氣入口的壓縮空氣的空氣分配腔;
其中具有環(huán)形壁的環(huán)形密封件密封地設(shè)置在徑向伸展的擋盤和所述主體表面之間以便分隔所述空氣分配腔,由此,將通過一個開口進(jìn)入所述腔內(nèi)環(huán)形壁一側(cè)的空氣引導(dǎo)到所述氣帽的中心孔,而將通過一個開口進(jìn)入所述腔內(nèi)環(huán)形壁另一側(cè)的空氣引導(dǎo)到所述氣帽的橫向孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴槍,其特征在于,所述環(huán)形壁是圓形的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的噴槍,其特征在于,所述環(huán)形壁設(shè)置在所述主體表面的凹槽內(nèi)。
4.根據(jù)前面任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的噴槍,其特征在于,所述環(huán)形壁相對于所述噴頭的主軸線偏心設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的噴槍,其特征在于,在所述主體的表面內(nèi)設(shè)置有一對開口,其用于將壓縮空氣從供氣入口導(dǎo)引至所述腔內(nèi),一個開口在所述環(huán)形壁內(nèi)而另一個開口在所述環(huán)形壁外。
6.根據(jù)前面任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的噴槍,其特征在于,將氣體經(jīng)穿過所述擋盤的通路導(dǎo)引至所述中心孔。
7.根據(jù)前面任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的噴槍,其特征在于,將氣體經(jīng)環(huán)繞所述擋盤邊緣伸展的通路導(dǎo)引至所述橫向孔。
8.根據(jù)前面任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的噴槍,其特征在于,所述氣帽具有向后伸展的圓柱形結(jié)構(gòu),它與所述徑向延伸的擋盤的前表面一起限定出環(huán)繞所述中空噴嘴的環(huán)形腔,以容納來自所述氣體分隔腔的霧化氣體。????
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的噴槍,其特征在于,所述中心孔由所述環(huán)形腔前表面上的開口限定。
10.根據(jù)前面任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的噴槍,其特征在于,所述噴嘴尖部伸入所述中心孔以限定環(huán)繞所述噴嘴尖部的霧化氣體環(huán)形流動通路。
11.根據(jù)前面任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的噴槍,其特征在于,給所述氣帽設(shè)置了一對噴口,??所述噴口包含至少幾個橫向孔。
12.根據(jù)前面任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的噴槍,其特征在于,所述密封件由塑料材料制成。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的噴槍,其特征在于,所述材料從聚醛樹脂,聚酰胺,聚丙烯和聚乙烯中選出。
14.根據(jù)權(quán)利要求3和它的任意一項(xiàng)從屬權(quán)利要求所述的噴槍,其特征在于,所述凹槽在所述主體表面內(nèi)切削加工制成。
15.根據(jù)前面任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的噴槍,其適用于噴射油漆或其它保護(hù)性或裝飾性的涂料。
16.根據(jù)附圖在此描述的噴槍。
17.用于在前面任意一項(xiàng)權(quán)利要求中限定的噴槍的噴頭。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于ITW有限公司,未經(jīng)ITW有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/02105334.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





