[發(fā)明專利]機(jī)械設(shè)備的控制裝置和控制方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 02102785.4 | 申請日: | 2002-02-01 |
| 公開(公告)號: | CN1369632A | 公開(公告)日: | 2002-09-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 安井裕司;田上裕;巖城喜久;森下邦裕 | 申請(專利權(quán))人: | 本田技研工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | F02D41/14 | 分類號: | F02D41/14;F02D45/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 機(jī)械設(shè)備 控制 裝置 方法 | ||
1.一種機(jī)械設(shè)備控制裝置,包括:
從給定的輸入生成給定的輸出的機(jī)械設(shè)備;
檢測所述機(jī)械設(shè)備的輸出的檢測部件;
為了使該檢測部件的輸出收斂于給定的目標(biāo)值而依次生成用于操作所述向機(jī)械設(shè)備的輸入的操作量的操作量生成部件;
其特征在于:
包括:至少使用該檢測部件的輸出數(shù)據(jù),利用相互不同的算法,依次生成表示所述機(jī)械設(shè)備具有的空耗時間之后的所述檢測部件的輸出的估計(jì)值的數(shù)據(jù)的多個估計(jì)部件;
所述操作量生成部件根據(jù)給定條件,選擇使用所述多個估計(jì)部件分別生成的數(shù)據(jù)中的任意一個數(shù)據(jù)所表示的估計(jì)值,或使用把該多個估計(jì)部件的數(shù)據(jù)分別表示的估計(jì)值以基于給定條件的形態(tài)合成后得到的估計(jì)值,來生成所述操作量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械設(shè)備的控制裝置,其特征在于:
所述操作量生成部件具有求出把所述多個估計(jì)部件分別生成的數(shù)據(jù)所表示的估計(jì)值加權(quán)合成后得到的合成估計(jì)值的部件,通過按照所述給定條件,可變地設(shè)置與各估計(jì)部件的估計(jì)值有關(guān)的加權(quán)系數(shù),求出含有所述各估計(jì)部件的估計(jì)值的所述合成估計(jì)值,使用該求出的合成估計(jì)值來生成所述操作量。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械設(shè)備的控制裝置,其特征在于:
所述操作量生成部件利用適應(yīng)控制的處理來生成所述操作量。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械設(shè)備的控制裝置,其特征在于:
所述操作量生成部件利用滑動模式控制的處理來生成所述操作量。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械設(shè)備的控制裝置,其特征在于:所
述給定條件是基于所述檢測部件的輸出數(shù)據(jù)值的條件。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的機(jī)械設(shè)備的控制裝置,其特征在于:所
述給定條件是把所述檢測部件輸出的時間系列數(shù)據(jù)作為變量成分,同時把按照所述滑動模式控制的處理中使用的切換函數(shù)來決定的給定的線性函數(shù)值和所述檢測部件的輸出數(shù)據(jù)值組合的條件。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的機(jī)械設(shè)備的控制裝置,其特征在于:
所述切換函數(shù)是把所述檢測部件的輸出與所述目標(biāo)值的偏差的時間系列數(shù)據(jù)作為變量成分的線性函數(shù);所述給定的線性函數(shù)是把與其變量成分有關(guān)的系數(shù)值設(shè)定為與所述切換函數(shù)的變量成分有關(guān)的系數(shù)值相同的線性函數(shù)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的機(jī)械設(shè)備的控制裝置,其特征在于:
所述組合的條件包含:所述線性函數(shù)的值和所述檢測部件的輸出數(shù)據(jù)值的組合,是否存在于在以這兩個值為坐標(biāo)成分的坐標(biāo)平面上預(yù)先決定的給定領(lǐng)域中的條件。
9.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、5中任意1項(xiàng)所述的機(jī)械設(shè)備的控制裝置,其特征在于:
所述機(jī)械設(shè)備是從設(shè)置在內(nèi)燃機(jī)的排氣通路上的排氣凈化用催化劑裝置的上游一側(cè)到下游一側(cè)的包含該催化劑裝置的排氣系統(tǒng);所述所述向機(jī)械設(shè)備的輸入是由所述內(nèi)燃機(jī)生成的進(jìn)入所述催化劑裝置的排氣的空燃比;所述機(jī)械設(shè)備的輸出是通過所述催化劑裝置的排氣中的特定成分的濃度。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的機(jī)械設(shè)備的控制裝置,其特征在于:
所述機(jī)械設(shè)備是從設(shè)置在內(nèi)燃機(jī)的排氣通路上的排氣凈化用催化劑裝置的上游一側(cè)到下游一側(cè)的包含該催化劑裝置的排氣系統(tǒng);所述所述向機(jī)械設(shè)備的輸入是由所述內(nèi)燃機(jī)生成的進(jìn)入所述催化劑裝置的排氣的空燃比,所述機(jī)械設(shè)備的輸出是通過所述催化劑裝置的排氣中的特定成分的濃度。
11.根據(jù)權(quán)利要求6~8中任意1項(xiàng)所述的機(jī)械設(shè)備的控制裝置,其特征在于:
所述機(jī)械設(shè)備是從設(shè)置在內(nèi)燃機(jī)的排氣通路上的排氣凈化用催化劑裝置的上游一側(cè)到下游一側(cè)的包含該催化劑裝置的排氣系統(tǒng);所述向機(jī)械設(shè)備的輸入是由所述內(nèi)燃機(jī)生成的進(jìn)入所述催化劑裝置的排氣的空燃比;所述機(jī)械設(shè)備的輸出是通過所述催化劑裝置的排氣中的特定成分的濃度。
12.根據(jù)權(quán)利要求1~8中任意1項(xiàng)所述的機(jī)械設(shè)備的控制裝置,其特征在于:
所述多個估計(jì)部件包括:
設(shè)定所述機(jī)械設(shè)備是從所述輸入通過響應(yīng)延遲元件和時滯元件生成所述檢測部件輸出的系統(tǒng),用根據(jù)反映該機(jī)械設(shè)備性能的預(yù)先決定的該機(jī)械設(shè)備的模型來構(gòu)筑的算法,生成表示所述估計(jì)值的數(shù)據(jù)的第一估計(jì)部件;
用模糊推理的算法生成表示所述估計(jì)值的數(shù)據(jù)的第二估計(jì)部件。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于本田技研工業(yè)株式會社,未經(jīng)本田技研工業(yè)株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/02102785.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:芳香族化合物的制備方法
- 下一篇:棉花處理系統(tǒng)及其操作方法
- 船舶機(jī)械與港口機(jī)械慧能系統(tǒng)及實(shí)現(xiàn)方法
- 一種適用于印刷機(jī)械制造行業(yè)的大型印刷機(jī)械設(shè)備
- 一種機(jī)械設(shè)備減震裝置
- 一種基于物聯(lián)網(wǎng)的火電廠旋轉(zhuǎn)機(jī)械健康管理方法及系統(tǒng)
- 機(jī)械設(shè)備租賃方法、服務(wù)器及系統(tǒng)
- 一種機(jī)械設(shè)備減震裝置
- 機(jī)械設(shè)備的可調(diào)導(dǎo)葉的控制方法、裝置以及機(jī)械設(shè)備
- 一種機(jī)械設(shè)備監(jiān)控管理平臺
- 極寒環(huán)境條件下設(shè)備管理方法
- 一種基于機(jī)械設(shè)備的防摔控制方法及機(jī)械設(shè)備





