[發(fā)明專(zhuān)利]制造集成半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 01821615.3 | 申請(qǐng)日: | 2001-12-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1484859A | 公開(kāi)(公告)日: | 2004-03-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·卡斯特納;T·米科拉杰克 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 因芬尼昂技術(shù)股份公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L27/108 | 分類(lèi)號(hào): | H01L27/108;H01L21/8242 |
| 代理公司: | 中國(guó)專(zhuān)利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吳立明;張志醒 |
| 地址: | 德國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制造 集成 半導(dǎo)體 存儲(chǔ) 裝置 方法 | ||
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專(zhuān)門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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