[發明專利]利用等離子體處理室中的單頻率RF功率處理晶片的系統、設備和方法有效
| 申請號： | 01816862.0 | 申請日： | 2001-10-05 |
| 公開（公告）號： | CN1468440A | 公開（公告）日： | 2004-01-14 |
| 發明（設計）人： | A·庫蒂;A·費舍爾 | 申請（專利權）人： | 蘭姆研究有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吳立明;梁永 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 利用 等離子體 處理 中的 頻率 rf 功率 晶片 系統 設備 方法 | ||
【說明書】：
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