[發明專利]用于清洗化學機械平面化設備的成分無效
| 申請號： | 01814842.5 | 申請日： | 2001-08-03 |
| 公開（公告）號： | CN1449437A | 公開（公告）日： | 2003-10-15 |
| 發明（設計）人： | 羅伯特·J·斯瑪爾;李周娟 | 申請（專利權）人： | EKC科技公司 |
| 主分類號： | C11D11/00 | 分類號： | C11D11/00;C11D3/30;C11D1/66;C11D3/20;C11D3/02;C11D7/26 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 馮賡宣 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 清洗 化學 機械 平面化 設備 成分 | ||
【說明書】：
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