[發(fā)明專(zhuān)利]基于近紅外分光計(jì)控制光致抗蝕劑剝離過(guò)程的方法和再生光致抗蝕劑剝離劑成分的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 01811689.2 | 申請(qǐng)日： | 2001-03-27 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1439120A | 公開(kāi)（公告）日： | 2003-08-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 樸美仙;金鐘民;樸兌濬;姜哲佑;任潤(rùn)吉 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 東進(jìn)半導(dǎo)體化學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G03F7/42 | 分類(lèi)號(hào)： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 關(guān)兆輝,張?zhí)焓?/td> |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基于 紅外 分光計(jì) 控制 光致抗蝕劑 剝離 過(guò)程 方法 再生 成分 | ||
【權(quán)利要求書(shū)】：
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類(lèi)似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?；蝾?lèi)似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?；蝾?lèi)似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
