[發(fā)明專(zhuān)利]后化學(xué)－機(jī)械平面化(CMP)清洗組合物有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 01810723.0 | 申請(qǐng)日： | 2001-06-06 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1433567A | 公開(kāi)（公告）日： | 2003-07-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 沙利亞·內(nèi)格西尼;杰夫·巴恩斯;徐定穎 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | ESC公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | H01L21/3105 | 分類(lèi)號(hào)： | H01L21/3105;H01L21/321;H01L21/306;C11D17/00;G03F7/42;H01L21/3213;H01L21/311;C11D1/62 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人： | 賈靜環(huán),宋莉 |
| 地址： | 美國(guó)賓夕*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 化學(xué) 機(jī)械 平面化 cmp 清洗 組合 | ||
【說(shuō)明書(shū)】：
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01 基本電氣元件
H01L 半導(dǎo)體器件；其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導(dǎo)體器件；其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
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