[發(fā)明專利]單電子束跟蹤管無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 01804962.1 | 申請日: | 2001-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN1401129A | 公開(公告)日: | 2003-03-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·P·C·M·克里恩;O·H·維勒姆森;N·C·范德瓦爾特 | 申請(專利權(quán))人: | 皇家菲利浦電子有限公司 |
| 主分類號: | H01J29/56 | 分類號: | H01J29/56;H01J29/48 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吳立明,張志醒 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電子束 跟蹤 | ||
1.包括一個電子束指引型彩色陰極射線管的顯示設(shè)備,具有一個顯示屏,和一個電子槍,顯示屏中含有多個平行熒光線,其特征在于:電子槍是單束電子槍,包括一個主透鏡,上述主透鏡中含有多個橢圓形格柵,每個格柵上具有單個橢圓形的穿過電子束的孔,格柵孔的縱向軸與格柵相平行,并且相對于熒光線方向橫向延伸。
2.依照權(quán)力要求1的顯示設(shè)備,其特征在于:主聚焦透鏡是分布式主透鏡。
3.依照權(quán)力要求1或2的顯示設(shè)備,其特征在于:電子槍中設(shè)置有用于校正電子束散光的校正裝置。
4.依照權(quán)力要求3的顯示設(shè)備,其特征在于:校正裝置包括一個動態(tài)可控散光聚焦透鏡(任意地布置在主透鏡的電子束入口側(cè))。
5.依照權(quán)力要求3的顯示設(shè)備,其特征在于:校正裝置包括一個柱面透鏡,柱面透鏡在垂直于格柵孔的縱向軸的平面上能實(shí)現(xiàn)主透鏡的功能。(柱面透鏡任意地布置在主透鏡的電子束入口側(cè))。
6.依照權(quán)力要求3的顯示設(shè)備,其特征在于:校正裝置包括一個動態(tài)可控磁四極透鏡。
7.依照權(quán)力要求6的顯示設(shè)備,其特征在于:磁四極透鏡位于主透鏡和顯示屏之間。
8.依照權(quán)力要求7的顯示設(shè)備,其特征在于:磁四極透鏡可以在電子槍縱向軸和格柵孔縱向軸所在的平面上匯聚電子束。
9.依照權(quán)力要求5的顯示設(shè)備,其特征在于:工作狀態(tài)下,柱面透鏡可以產(chǎn)生電四極。
10.依照權(quán)力要求9的顯示設(shè)備,其特征在于:工作狀態(tài)下,電四極可以在電子槍縱向軸和格柵孔縱向軸所在的平面上對電子束分叉。
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