[發明專利]與調制器集成的衰減器用于使用它的WDM系統的發射模塊

無效

• 申請號: 01803775.5
• 申請日: 2001-01-09
• 公開（公告）號: CN1395771A
• 公開（公告）日: 2003-02-05
• 發明（設計）人: A·卡斯托爾迪;D·夏恩卡勒波爾;F·德爾奧托
• 申請（專利權）人: 康寧O.T.I股份公司
• 主分類號: H04B10/12
• 分類號: H04B10/12;G02B6/12
• 代理公司: 上海專利商標事務所
• 代理人: 李家麟

1.一集成光學器件，包括：

一平面基底，

一集成在所述基底上的Mach-Zehnder調制器，

其特征在于，它還包括：

一集成在所述基底上提供衰減范圍的Y-支路衰減器，所述Y-支路衰減器被光耦合到所述Mach-Zehnder調制器，以及

減小在所述Y-支路衰減器和所述Mach-Zehnder調制器之間交擾的裝置，從而該光學器件在衰減范圍至少為6dB時，其消光比至少為18dB。

2.如權利要求1所述的集成光學器件，其特征在于，該光學器件在衰減范圍至少為6dB時，其消光比至少為20dB。

3.如權利要求1或2所述的集成光學器件，其特征在于，所述Mach-Zehnder調制器被光耦合到所述Y-支路衰減器的一個臂。

4.如權利要求1或2所述的集成光學器件，其特征在于，所述Mach-Zehnder調制器被光耦合到所述Y-支路衰減器的普通波導。

5.如權利要求1到4所述的集成光學器件，其特征在于，所述用于減小交擾的裝置包括平行于縱向方向配置的所述Y-支路衰減器的一個臂。

6.如權利要求1至5所述的集成光學器件，其特征在于，所述用于減小交擾的裝置包括散布在所述基底上的未導向輻射的濾波器，該濾光器被安裝在所述Y-支路衰減器和所述Mach-Zehnder調制器之間的一個區域內。

7.如權利要求6所述的集成光學器件，其特征在于，所述濾光器包括配置在耦合所述Y-支路衰減器和所述Mach-Zehnder調制器的連接光波導一側的金屬狹條。

8.如權利要求7所述的集成光學器件，其特征在于，所述金屬狹條之間的間隙約為所述連接光波導MFD的170％。

9.如權利要求7所述的集成光學器件，其特征在于，所述金屬狹條的長度約為4mm。

10.如權利要求7所述的集成光學器件，其特征在于，所述金屬狹條被集成于所述Y-支路衰減器電極的一個延伸區，使得在所述電極之間的間隙，在所述延伸區的第一部分，從所述光波導MFD的約100％逐漸增加到約170％，而在所述延伸區的第二部分約為所述光波導MFD的約170％。

11.如權利要求10所述的集成光學器件，其特征在于，所述延伸區的第二部分具有約為4mm的長度。

12.如權利要求1到11所述的集成光學器件，其特征在于，所述用于減小交擾的裝置包括用于所述Y-支路衰減器的波導，其寬度比所述Mach-Zehnder調制器波導的寬度小5％和16％之間。

13.如權利要求12所述的集成光學器件，其特征在于，所述Y-支路衰減器的波導寬度比所述Mach-Zehnder調制器的波導寬度小8％。

14.一集成光學器件，包括：

一基底，

一集成在所述基底上的Mach-Zehnder調制器，

其特征在于，它還包括：

一集成在所述基底上的Y-支路衰減器，

所述Mach-Zehnder調制器被光耦合到所述Y-支路衰減器的一個臂。

15.一種用于減少包括集成在基底上的光波導的至少兩個器件間的交擾的方法，所述光學器件的每個包括至少一個光波導的多模區部分，所述交擾是由在基底上所述光學器件之間所組成的一個區域中傳播的未導向光輻射所產生的，所述方法包括濾除在所述區域中的所述未導向的輻射。

16.一發射模塊，包括：

一發射一光信號的激光源，

一用于調制所述光信號強度的集成光學器件，包括一在基底上形成的Mach-Zehnder調制器，

其特征在于，

所述集成光學器件還包括一在所述基底上形成的、被光耦合到所述調制器的Y-支路衰減器，以提供一衰減范圍，以及

減小在所述Y-支路衰減器和所述Mach-Zehnder調制器之間交擾的裝置，從而該光學器件在衰減范圍至少為6dB時，其消光比至少為18dB。