[發明專利]鏡面拋光加工用超級拋光輪

有效

• 申請號: 01802732.6
• 申請日: 2001-08-09
• 公開（公告）號: CN1392823A
• 公開（公告）日: 2003-01-22
• 發明（設計）人: 平田隆洋;岡西幸緒
• 申請（專利權）人: 聯合材料公司
• 主分類號: B24D7/06
• 分類號: B24D7/06;B24D3/14;B24D3/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 劉曉峰

1.鏡面拋光用超級拋光輪(100，200)，包括：

圓形基盤(120，220)，該圓形基盤具有端面(121，221)；

大量超級拋光層(110，210)，各個超級拋光層的外圓周側面(111)，沿著所述的基盤(120，220)的圓周方向以一定間隔排列，并且固定在所述的基盤(120，220)的端面(121，221)上，其特征在于：

各個所述的超級拋光層(110，210)形狀均為平板形，其排列方式使得所述的圓周端面(111)實際上與所述的超級拋光輪(100，200)的旋轉軸互相平行；

由各個所述的平板形超級拋光層(110，210)的厚度確定的表面(113)被固定在所述的基盤(120，220)的端面(121，221)上；

采用玻璃態粘接劑將超細研磨顆粒粘接固定在所述的超級拋光層(110，210)內。

2.根據權利要求1所述的鏡面拋光用的超級拋光輪，其特征在于所述的超級拋光層(110，210)，其工作面(112)實際上與所述的超級拋光輪(100，200)的旋轉軸互相垂直，所述的各個超級拋光層(110，210)的工作面積與所述的各個超級拋光層內圓周邊緣連線和外圓周邊緣連線確定的圓環形面積的之比最小為5％，最大不超過80％。

3.根據權利要求1所述的鏡面拋光用的超級拋光輪，其特征在于所述的超級拋光層(110，210)內包含有超細研磨顆粒，該超細研磨顆粒的平均顆粒尺寸最小為0.1μm，最大為100μm。

4.鏡面拋光用超級拋光輪(300，400)包括：

圓形基盤(320，420)，該圓形基盤具有端面321，421)；

大量超級拋光層(310，410)，各個超級拋光層的外圓周側面(311)，沿著所述的基盤(320，420)的圓周方向以一定間隔排列，并且固定在所述的基盤(320，420)的端面(321，421)上，其特征在于：

所述的各個超級拋光層(310，410)形狀均為以一定角度彎曲的平板形，其排列方式使得所述的圓周端面(311)實際上與所述的超級拋光輪(300，400)的旋轉軸互相平行；

由所述的各個平板形超級拋光層(310，410)的厚度確定的表面(313)被固定在所述的基盤(320，420)的端面(321，421)上。

5.根據權利要求4所述的鏡面拋光用的超級拋光輪，其特征在于所述的超級拋光層(310，410)內包含有超細研磨顆粒，采用玻璃態粘接劑將超細研磨顆粒粘接固定在所述的超級拋光層(310，410)內。

6.根據權利要求4所述的鏡面拋光用的超級拋光輪，其特征在于所述的超級拋光層(310，410)內包含有超細研磨顆粒，采用樹脂粘接劑將超細研磨顆粒粘接固定在所述的超級拋光層(310，410)內。

7.根據權利要求4所述的鏡面拋光用的超級拋光輪，其特征在于所述的各個超級拋光層(310，410)的排列方式使得有一定角度的部分(314)位于所述的超級拋光輪(300，400)的內圓周一側。

8.根據權利要求4所述的鏡面拋光用的超級拋光輪，其特征在于所述的各個超級拋光層(310，410)形狀均為彎曲成V字形的平板形。

9.根據權利要求8所述的鏡面拋光用的超級拋光輪，其特征在于所述的V字形頂角角度最小為30°，最大不超過150°。

10.根據權利要求4所述的鏡面拋光用的超級拋光輪，其特征在于所述的各個超級拋光層(410)形狀均為平板形，并彎曲形成曲面。

11.根據權利要求4所述的鏡面拋光用的超級拋光輪，其特征在于所述的超級拋光層(310，410)，其工作面(312)實際上與所述的超級拋光輪(100，200)的旋轉軸互相垂直，所述的各個超級拋光層(310，410)的工作面積與所述的各個超級拋光層內圓周邊緣連線和外圓周邊緣連線確定的圓環形面積的之比最小為5％，最大不超過80％。

12.根據權利要求4所述的鏡面拋光用的超級拋光輪，其特征在于所述的各個超級拋光層(310，410)內包含有超細研磨顆粒，該超細研磨顆粒的平均顆粒尺寸最小為0.1μm，最大為100μm的超細研磨顆粒。