[發明專利]有放射線敏感性的折射率變化性組合物及折射率變化法

有效

• 申請號: 01802620.6
• 申請日: 2001-08-24
• 公開（公告）號: CN1388919A
• 公開（公告）日: 2003-01-01
• 發明（設計）人: 西村功;別所信夫;熊野厚司;下川努;山田憲司
• 申請（專利權）人: 捷時雅株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/36;C08L83/14;C08L101/00;G02B3/00;G02B5/18;G02B6/12;G03H1/02
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 魏金璽,楊麗琴

1.一種有放射線敏感性的折射率變化性組合物，其特征在于：含有(A)分解性化合物、(B)折射率比分解性化合物(A)低的非分解性化合物、(C)感放射線分解劑及(D)穩定化劑。

2.權利要求1記載的組合物，其特征在于：放射線照射部分的折射率與放射線未照射部分的折射率的最大差為不小于0.02。

3.權利要求1或2記載的組合物，其特征在于：非分解性化合物(B)的折射率n_B與分解性化合物(A)的折射率n_A存在下式(1)：n_A-n_B≥0.05……(1)的關系。

4.權利要求1～3的任一項記載的組合物，其特征在于：(A)分解性化合物是酸分解性化合物，(B)非分解性化合物是酸非分解性聚合物，而(C)放射線敏感性分解劑是放射線敏感性酸發生劑。

5.權利要求4記載的組合物，其特征在于：(A)酸分解性化合物含有至少一種這樣的化合物，該化合物具有選自用下式(1)～(8)的任一式所示的結構中的至少一種結構，其中，式(1)中，R¹是亞烷基、亞烷基亞芳基亞烷基或亞芳基，而R²是亞烷基、亞烷基亞芳基亞烷基、亞芳基、烷基亞硅烷基或烷基亞鍺烷基；式(2)中，M是Si或Ge，R³是亞烷基、亞烷基亞芳基亞烷基、亞芳基、烷基亞硅烷基或烷基亞鍺烷基，R⁴是氧原子、亞烷基、亞烷基亞芳基亞烷基、亞芳基或單鍵，R⁵、R⁶、R⁷及R⁸分別獨立地是氫原子、烷基、芳基、烷氧基或硫代烷基，而m是0～2的整數；式(3)中，R⁹及R¹⁰分別獨立地是亞烷基、亞烷基亞芳基亞烷基、亞芳基、烷基亞硅烷基或烷基亞鍺烷基；式(4)中，R¹¹是羥基亞烷基或單鍵，而R¹²是氫原子、烷基、亞烷基亞芳基亞烷基或芳基；式(5)中，R¹³是氫原子、烷基或芳基；式(6)中，R¹⁴是亞烷基、或以下式(6)-1、(6)-2或(6)-3表示的結構，其中，式(6)-1中，R¹⁵、R¹⁶、R¹⁷及R¹⁸互相獨立地是氫原子、C₁～C₆的鏈烷基、氯原子、溴原子、碘原子、羥基、巰基、羧基、C₁～C₆的烷氧基、C₁～C₆的烷硫基、C₁～C₆的鹵代烷基、C₁～C₆的鹵代烷氧基、C₁～C₆的鹵代烷硫基、C₁～C₆的羥烷基、C₁～C₆的巰烷基、C₁～C₆的羥烷氧基、C₁～C₆的巰烷硫基、C₆～C₁₀的芳基或C₇～C₁₁的芳烷基，-O-R¹⁹-O-???????????…(6)-2式(6)-2中，R¹⁹是亞烷基，-NH-R²⁰-NH-?????????…(6)-3式(6)-3中，R²⁰是亞烷基；式(7)中，R²¹是亞烷基、亞烷基亞芳基亞烷基或亞芳基；式(8)中，R²²、R²³、R²⁴及R²⁵互相獨立地是氫原子、C₁～C₆的鏈烷基、氯原子、溴原子、碘原子、羥基、巰基、羧基、C₁～C₆的烷氧基、C₁～C₆的烷硫基、C₁～C₆的鹵代烷基、C₁～C₆的鹵代烷氧基、C₁～C₆的鹵代烷硫基、C₁～C₆的羥烷基、C₁～C₆的巰烷基、C₁～C₆的羥烷氧基、C₁～C₆的巰烷硫基、C₆～C₁₀的芳基或C₇～C₁₁的芳烷基。