[發明專利]抗蝕劑抗反射涂層組合物

無效

• 申請號: 01802441.6
• 申請日: 2001-08-17
• 公開（公告）號: CN1398362A
• 公開（公告）日: 2003-02-19
• 發明（設計）人: 毛智彪;蘇珊·高利;提莫希·G·愛當斯
• 申請（專利權）人: 希普列公司
• 主分類號: G03F7/09
• 分類號: G03F7/09
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司
• 代理人: 戈泊,梁潔

1.一種有涂層的的基材，包括：

一片基材，其上具有

1)一層抗反射組合物涂層，以及

2)抗反射層之上的一層光致抗蝕劑涂層；

其中，該抗反射組合物包括至少約30摩爾％氧。

2.如權利要求1的有涂層的基材，其中該抗反射組合物包括至少約40摩爾％氧。

3.如權利要求1的有涂層的基材，其中該抗反射組合物包括至少約50摩爾％氧。

4.如權利要求1的有涂層的基材，其中該抗反射組合物包括至少約60摩爾％氧。

5.如權利要求1至4中任一項的有涂層的基材，其中該抗反射組合物包括a)一種樹脂，b)一種酸或熱酸產生劑，以及c)一種交聯劑。

6.如權利要求1至5中任一項的有涂層的基材，其中該抗反射組合物還包括一種含氧添加劑。

7.如權利要求6的有涂層的基材，其中該添加劑的分子量小于約3,000道爾頓。

8.如權利要求6的有涂層的基材，其中該添加劑包括約40摩爾％氧。

9.如權利要求6的有涂層的基材，其中該添加劑為低聚物。

10.如權利要求1至9中任一項的有涂層的基材，其中該抗反射組合物包括一種樹脂，該樹脂含有聚合的丙烯酸酯單元，酯基部分含有一個或多個氧原子。

11.如權利要求10的有涂層的基材，其中該樹脂含有下式單體聚合單元：

其中R為氫或烷基；以及R¹、R²及R³各自分別為任選取代的烷基或任選取代的烷氧基。

12.如權利要求1至11中任一項的有涂層的基材，其中該抗反射涂層組合物包括一種樹脂，該樹脂具有一個或多個生色基團，該生色基團被一個或多個氧原子取代。

13.如權利要求12的有涂層的基材，其中該生色基團為苯基。

14.如權利要求13的有涂層的基材，其中該苯基被酯基取代。

15.如權利要求12的有涂層的基材，其中該生色基團包括一個選自乙酰氧苯乙烯、2-羥-3-苯氧甲基丙烯酸酯及2-苯氧甲基甲基丙烯酸酯的單體。

16.一種有涂層的基材，包括：

一片基材，其上具有

1)一層抗反射組合物涂層，以及

2)抗反射層之上的一層光致抗蝕劑涂層；

其中，在標準等離子浸蝕中，該抗反射組合物的浸蝕速率比該光致抗蝕劑組合物的浸蝕速率高至少約25％。

17.如權利要求16的有涂層的基材，其中，在標準等離子浸蝕中，該抗反射組合物的浸蝕速率比該光致抗蝕劑組合物的浸蝕速率高至少約60％。

18.如權利要求1或16的有涂層的基材，其中該基材為微電子晶片、平板顯示器基板或光電子基板。

19.如權利要求1的有涂層的基材，其中該抗反射組合物是如權利要求2至15中任一項所述的抗反射組合物。

20.一種在基材上形成光致抗蝕劑浮雕影像的方法，該方法包括：

(a)在基材上涂敷一層抗反射組合物，

(b)在抗反射組合物層上涂敷一層光致抗蝕劑組合物，以及

(c)將光致抗蝕劑層曝光于激發輻射并將曝光后的光致抗蝕劑層顯影；

其中該抗反射組合物包括至少約30摩爾％氧。

21.如權利要求20的方法，其中該抗反射組合物包括至少約40摩爾％氧。

22.如權利要求20的方法，其中該抗反射組合物還包括一種含氧添加劑。

23.如權利要求22的方法，其中該添加劑包括約40摩爾％氧。

24.如權利要求20的方法，其中該抗反射組合物包括一種樹脂，該樹脂含有聚合的丙烯酸酯單元，酯基部分含有一個或多個氧原子。