[發(fā)明專利]光記錄媒體有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 01801244.2 | 申請日: | 2001-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN1380855A | 公開(公告)日: | 2002-11-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 新開浩;井上弘康;加藤達(dá)也;宇都宮肇;田中美知 | 申請(專利權(quán))人: | TDK株式會社 |
| 主分類號: | B41M5/26 | 分類號: | B41M5/26;G11B7/24 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 王以平 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 記錄 媒體 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及相變型光記錄媒體。
背景技術(shù)
近年來,可高密度記錄且可擦除記錄信息進(jìn)行改寫的光記錄媒體引人注目。可改寫型的光記錄媒體中有相變型光記錄媒體,其中通過照射激光改變記錄層的晶體狀態(tài)而進(jìn)行記錄,并通過檢測伴隨這種狀態(tài)變化而產(chǎn)生的記錄層的反射率變化進(jìn)行重放。由于相變型光記錄媒體的驅(qū)動裝置的光學(xué)系統(tǒng)比磁光記錄媒體的簡單,所以相變型光記錄媒體引人注目。
由于其晶體狀態(tài)和非晶體狀態(tài)的反射率的差大且非晶體狀態(tài)的穩(wěn)定性比較高。相變型的記錄層,多采用Ge-Sb-Te系等的硫族材料。
在相變型光記錄媒體中記錄信息時,照射使記錄層升溫到熔點以上的高功率(記錄功率)的激光。在施加記錄功率的部分,記錄層熔化后急冷,形成非晶態(tài)的記錄標(biāo)記。而在擦除記錄標(biāo)記時,對記錄層照射較低功率(擦除功率)的激光,使記錄層升溫到結(jié)晶溫度以上但低于熔點的溫度。被施加擦除功率的記錄標(biāo)記,被加熱到結(jié)晶溫度以上,然后緩冷,又成為晶態(tài)。因此,通過只改變激光的強度,相變型光記錄媒體就可以進(jìn)行重寫。
為了實現(xiàn)記錄的高密度化和高傳輸速度化,需要進(jìn)一步使記錄重放波長縮短,提高記錄重放光學(xué)系統(tǒng)的物鏡數(shù)值孔徑,并提高媒體的線速度。記錄用激光束的記錄層表面上的光斑直徑在激光波長為λ,數(shù)值孔徑為NA時可表示為λ/NA,其除以媒體線速度V得到的值(λ/NA)/V就是激光束對記錄層的照射時間(光斑通過需要的時間)。伴隨著高密度化和高傳輸速度化,對記錄層的照射時間愈發(fā)地變短了。因此,更難以使重寫條件最優(yōu)化。
現(xiàn)在,說明提高線速度進(jìn)行重寫時的問題。
線速度增加時,記錄用激光束(下稱記錄光束)的照射時間變短。因此一般地,通過隨著線速度增加提高記錄功率,就可以防止記錄層到達(dá)的溫度降低。
另外,為了擦除非晶態(tài)記錄標(biāo)記(再結(jié)晶化),必須以使記錄層在高于結(jié)晶化溫度且低于熔點的溫度下保持長于一定時間的方式,照射擦除光。即使相應(yīng)于高線速化而提高擦除功率以防止記錄層到達(dá)的溫度降低,由于伴隨著高線速化照射時間變短,使擦除記錄標(biāo)記變得困難。
因此,為了提高線速度并提高傳輸速度,記錄層必須是可以較短的時間再結(jié)晶化、例如日本專利特開平1-78444號公報、和平10-326436號公報所示的使結(jié)晶化速度比較快的成分。
發(fā)明概述
但是,結(jié)晶轉(zhuǎn)移速度快即結(jié)晶化所需時間短的記錄層的熱穩(wěn)定性低。即,由于在溫度比較高的環(huán)境下容易結(jié)晶化,存在保存可靠性低的問題。
另外,作為實現(xiàn)高傳輸速度的方法,提高媒體的線速度的方法雖然提高了媒體的線記錄密度,但本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)如果為了提高線記錄密度而減小記錄標(biāo)記長度,就會降低記錄標(biāo)記的熱穩(wěn)定性。
本發(fā)明的目的在于提供可以提高傳輸速度,而且記錄層的熱穩(wěn)定性良好的相變型光記錄媒體。
通過下面的(1)-(3)的發(fā)明可以實現(xiàn)這些目的。
(1).一種光記錄媒體,其中:具有以Sb作為主成分的相變型記錄層,該記錄層結(jié)晶化時,結(jié)晶化區(qū)域含有基本上由Sb構(gòu)成的菱形晶體,且基本上不包含除基本上由Sb構(gòu)的菱形晶體以外的結(jié)晶相。
(2).如上述(1)所述的光記錄媒體,其中:上述記錄層中作為主成分還含有Te和/或In。
(3).如上述(1)或(2)所述的光記錄媒體,其中:
上述記錄層含有作為副成分的選自稀土類元素、Zr、Hf、Ti和Sn的至少一種元素;
在從記錄/重放光束入射側(cè)看的記錄層的前側(cè)具有與記錄層相接的介電層,該介電層含有硫化鋅與氧化硅的混合物、氧化硅、氮化硅或氧化鋁,上述混合物中的氧化硅含量為30mol%以上。
以Sb為主要構(gòu)成成分的相變型記錄層,Sb含量越多,結(jié)晶轉(zhuǎn)變速度越快。另外,Sb含量越多,記錄層的熱穩(wěn)定性越差。為了提高熱穩(wěn)定性,只能抑制Sb含量,最好是替換成提高熱穩(wěn)定性的元素,但是此時難以提高記錄層的結(jié)晶轉(zhuǎn)變速度。
本發(fā)明的媒體中的相變型記錄層,結(jié)晶區(qū)含有基本上由Sb構(gòu)成的菱形晶體,且基本上不包含除該菱形晶體之外的結(jié)晶相。在以Sb為主要構(gòu)成成分的相變型記錄層中,如果存在的結(jié)晶相基本上都是Sb構(gòu)成的菱形晶體,與Sb含量相同的由面心立方晶體(fcc)構(gòu)成的記錄層相比,結(jié)晶轉(zhuǎn)變速度更快,另外,與Sb含量相同的由Sb相和Sb2Te3相構(gòu)成的記錄層相比,結(jié)晶轉(zhuǎn)變速度也更快。因此,本發(fā)明可以實現(xiàn)可以高線速度重寫,且熱穩(wěn)定性良好的相變型光記錄媒體。
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