[發明專利]銦錫氧化物濺射靶無效
| 申請號： | 01800702.3 | 申請日： | 2001-01-23 |
| 公開（公告）號： | CN1365398A | 公開（公告）日： | 2002-08-21 |
| 發明（設計）人： | 大橋建夫;熊原吉一 | 申請（專利權）人： | 株式會社日礦材料 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 盧新華,楊麗琴 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化物 濺射 | ||
【權利要求書】：
1.?一種ITO濺射靶，在所述靶中包含的SnO2含量為8.80-9.40重量％。
2.一種ITO濺射靶，在所述靶中包含的SnO2含量為8.90-9.30重量％。
3.一種ITO濺射靶，在所述靶中包含的SnO2含量為9.00-9.20重量％。
4.根據權利要求1-3的ITO濺射靶，其中所述靶的密度≥7.00g/cm3。
5.根據權利要求1-4的ITO濺射靶，其中所述靶的算術平均粗糙度Ra≤0.5μm。
6.根據權利要求1-5的ITO濺射靶，其中所述靶的平均晶粒粒度＜4μm。
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