[發(fā)明專利]圓形光學存儲盤及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 01800328.1 | 申請日: | 2001-01-24 |
| 公開(公告)號: | CN1363091A | 公開(公告)日: | 2002-08-07 |
| 發(fā)明(設計)人: | M·M·J·德克雷 | 申請(專利權)人: | 皇家菲利浦電子有限公司 |
| 主分類號: | G11B7/26 | 分類號: | G11B7/26 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曾祥凌,章社杲 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圓形 光學 存儲 及其 制造 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種圓形光學存儲盤的制造方法,其具有一帶有一第一表面和一外圍的基底,其中該第一表面設置有通過施加一液體、旋轉該基底并將該液體固化形成的涂層。
本發(fā)明還涉及由上述方法制造的圓形光學存儲盤。
該方法如從日本專利JP-11086356A是已知的。上述涂覆步驟是以“旋轉涂覆”已知。在旋轉涂覆過程中,許多含有溶劑的液體分配成一基底,然后旋轉該基底。隨后將基底的旋轉速度增加至一較高速度,取決于期望的層厚,一般地為幾百至成千上萬轉每分。離心力導致徑向液流,使得大部分液體旋轉離開基底。
流體行為的自然規(guī)律導致在基底的外圍出現(xiàn)流體的較厚層形式如抬高的邊緣,其上防止使過量流體流動。流體以滴狀離開基底,而不是連續(xù)流動。該抬高的邊緣是流體內表面張力和其在基底的外圍的接觸角的結果。于是,抬高的邊緣厚度從基底的外圍向內擾動幾個毫米。一般當使用圓形基底時,其內發(fā)生擾動的距離是幾個毛細管長度值:
其中σ是流體的表面張力,p是其容積質量,g是重力加速度。當使用蒸發(fā)溶劑時,由于溶劑的蒸發(fā)流體快速地開始固化,留下圓形對稱的呈某種徑向厚度狀的固體涂層。通常一熱固化步驟隨著該處理步驟用于進一步固化。當使用非蒸發(fā)溶劑或慢蒸發(fā)溶劑時,流體材料通常是紫外線可固化的,并且直接在旋轉涂覆步驟及基底仍在其旋轉涂覆位置硬化后固化。
在JP-11086356A描述的方法中,使用超尺寸的基底,在旋轉涂覆和流體固化后,將基底切成期望的直徑,然后除去抬高的邊緣。
該方法的缺點是,需用特殊工具來修剪基底,污染光盤表面顆粒、灰塵或薄片可通過修剪操作形成。并且,這些工具易于遭受磨損,需要頻繁更換。
另一個缺點是,修剪操作可在剪切邊緣近的基底附近引起非松弛性應變,該剪切邊緣在基底的幾毫米如五毫米的外圍區(qū)域可產生光學重折率,當通過基底讀或寫光盤時,其會帶來問題。
然而另一個缺點是在光盤制造中使用生產成本較高的非標超大基底。
本發(fā)明的目的是提供開頭段所述類型的方法,由該方法可抵消盤上的抬高的邊緣并避免修剪基底。
本發(fā)明的該目的是這樣實現(xiàn)的,當將流體旋加到第一表面時,基底呈分立的延伸體,該延伸體具有大體周向地與基底的外周接觸,還具有大體與基底的第一表面平齊的表面,至少流體的局部固化后,延伸體和基底分開。
延伸體形成一帶有光盤基底的大體連續(xù)的表面。延伸體的表面最好沒有延伸超出基底的第一表面。實踐中,偏離期望涂層厚度的小于十分之一是可以接受的。在該情形中,延伸體不會或幾乎不會阻礙涂層流體流離基底。可將延伸體的表面定位于基底的第一表面稍下方,如在一約期望涂層厚度三分之一的距離。但最好避免任何偏離。這樣,由于涂層流體光滑地穿過基底-延伸體邊界,就免除了抬高的邊緣形式。抬高的邊緣從光盤基底外周轉送至延伸體的外部外周。
延伸體與光盤的基底的外部外圍大體周向地接觸,從而避免延伸體和基底間的縫隙,這是非常重要的。否則表面張力會在縫隙位置引起層厚偏離;甚至抬高的邊緣。沒有縫隙也防止流體穿過上述縫隙的毛細流動。實踐中,盡管避免縫隙是重要的,非常小的不會引起涂層流體的大量毛細流動的縫隙會存在并可接受。
位于其表面之下的延伸體的形狀可以自由地選擇,只要其表面大體與光盤基底的第一表面平齊以及避免光盤基底和延伸體間的縫隙。當流體固化后,除去延伸體,這或者引起涂層在光盤的基底的外周脫落或使其從延伸體釋放。延伸體的表面粘合特性決定兩種可能性之一的發(fā)生。當涂層完全從延伸體釋放,但仍與光盤的基底上的涂層形成一整體,有必要將重疊部分去掉。然而,這只需要一個非常簡單的剪切工具,由于相對薄的涂層的厚度。
在本發(fā)明的方法的實施例中,延伸體具有一圓形的外部外圍。由于是圓形,該延伸體相對容易裝配。
在本發(fā)明的方法的另一實施例中,延伸全具有一多邊形的外部外圍。在該實施中,極大地降低了抬高的邊緣擾動距離,并進一步改進光盤的基底外圍附近的抬高的邊緣的形成抵消作用。對該改進的解釋是涂層流體的改進的排放,由于延伸體的外圍的拐角點的出現(xiàn)。使過量流體量、抬高的邊緣的潛在高度和寬度降低。
在本發(fā)明方法的實施例的修改中,延伸體具有規(guī)則多邊形形狀,如六邊形或方形,其具有流體對稱排泄的優(yōu)點。另一優(yōu)點是,容易實現(xiàn)平衡盤/延伸體結合,其在上述結合旋轉過程中是重要的。另一個優(yōu)點是,六邊形和方形延伸體可從板材上剪切而不會有大量的剪切損失。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于皇家菲利浦電子有限公司,未經皇家菲利浦電子有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/01800328.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:破碎濕砂鑄型以及分離造型材料和濕砂的方法和裝置
- 下一篇:皮帶扣





