[發(fā)明專利]發(fā)光元件陣列的光量設(shè)定方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 01800023.1 | 申請日： | 2001-01-22 |
| 公開（公告）號： | CN1164430C | 公開（公告）日： | 2004-09-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 大野誠治;楠田幸久;大塚俊介;黑田靖尚;有馬尊久;齊藤英昭 | 申請（專利權(quán)）人： | 日本板硝子株式會社 |
| 主分類號： | B41J2/45 | 分類號： | B41J2/45;H01L33/00 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 發(fā)光 元件 陣列 設(shè)定 方法 | ||
【說明書】：
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B41 印刷；排版機(jī)；打字機(jī)；模印機(jī)
B41J 打字機(jī)；選擇性印刷機(jī)構(gòu)，即不用印版的印刷機(jī)構(gòu)；排版錯誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計的打字機(jī)或選擇性印刷機(jī)構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射
B41J 打字機(jī)；選擇性印刷機(jī)構(gòu)，即不用印版的印刷機(jī)構(gòu)；排版錯誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計的打字機(jī)或選擇性印刷機(jī)構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射
- 地址設(shè)定系統(tǒng)及地址設(shè)定方法
- 打印設(shè)定系統(tǒng)及設(shè)定方法
- 設(shè)備設(shè)定裝置,設(shè)備設(shè)定系統(tǒng),及設(shè)備設(shè)定方法
- 設(shè)定系統(tǒng)、設(shè)定方法、圖像處理裝置的設(shè)定支援裝置
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- 數(shù)據(jù)設(shè)定系統(tǒng)以及數(shù)據(jù)設(shè)定方法
- 設(shè)定裝置以及設(shè)定系統(tǒng)
- 設(shè)定系統(tǒng)、設(shè)定裝置及設(shè)定方法
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- 設(shè)備設(shè)定裝置、設(shè)備設(shè)定方法、設(shè)備設(shè)定系統(tǒng)、存儲介質(zhì)
