[實用新型]調整光源投射定位裝置無效
| 申請號: | 01279038.9 | 申請日: | 2001-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN2537949Y | 公開(公告)日: | 2003-02-26 |
| 發明(設計)人: | 趙利民 | 申請(專利權)人: | 趙利民 |
| 主分類號: | F41G1/35 | 分類號: | F41G1/35 |
| 代理公司: | 北京紀凱知識產權代理有限公司 | 代理人: | 徐寧 |
| 地址: | 臺灣省臺北市文*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 調整 光源 投射 定位 裝置 | ||
1、一種調整光源投射定位裝置,其特征在于它包括:
一光源投射裝置;
一外部構件,其套設在所述光源投射裝置外部,所述外部構件前側設有一透光孔與所述光源投射裝置相對應,所述外部構件兩側設有四個平行向延伸的調整螺孔,所述調整螺孔呈上、下及左、右相對,每一調整螺孔各螺接有一調整螺絲,其可頂觸于所述光源投射裝置外壁。
2、如權利要求1所述的調整光源投射定位裝置,其特征在于:它還包括一光源投射本體,所述光源投射本體內部設有一容置室,所述光源投射裝置設置在所述容置室內部,所述外部構件連接在所述容置室前端。
3、如權利要求2所述的調整光源投射定位裝置,其特征在于:所述光源投射本體外側設有一工具。
4、如權利要求1或2或3所述的調整光源投射定位裝置,其特征在于:所述外部構件的材料為金屬。
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