[實用新型]廢氣處理槽的清除裝置

無效

• 申請號: 01219921.4
• 申請日: 2001-04-23
• 公開（公告）號: CN2487455Y
• 公開（公告）日: 2002-04-24
• 發明（設計）人: 馮五良
• 申請（專利權）人: 東服企業有限公司
• 主分類號: B08B9/04
• 分類號: B08B9/04
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 朱黎光,張占榜

本實用新型涉及一種廢氣處理槽的清除裝置，更具體地說，涉及一種在半導體廢氣處理設備中廢氣處理槽的清除裝置，該裝置具有多段變速清潔能力。

在目前半導體生產制造過程中，均會產生高溫和具有毒性的廢氣，為了避免該廢氣對環境造成污染與公害，必須首先將該廢氣內的有害成份予以過濾去除，再將溫度降低至適當溫度后才能排出。

如圖6所示，目前在車間中常用的解決處理方式是：首先將半導體制程中產生的廢氣注入到廢氣處理槽內，再經由廢氣處理槽下方的通道進入到廢氣清洗過濾槽內。在廢氣處理槽下端設置有一刮除裝置和一冷卻水噴灑裝置，先通過冷卻水噴灑裝置將高溫的廢氣予以冷卻；再利用刮除裝置的上下往復運動將附著于廢氣處理槽內壁上的沉淀物等雜質刮除掉，從而防止沉淀物等雜質凝固成塊并附著于廢氣處理槽的內壁上。其中，廢氣清洗過濾槽的作用是將經冷卻水噴灑裝置降溫的廢氣進行進一步冷卻，并經由洗滌、過濾后，再經廢氣清洗過濾槽上方的排出口排出。

利用前述的刮除裝置和冷卻水噴灑裝置來施行的刮除、冷卻作業，是半導體制程中日常作業的一部份。只要半導體制造裝置處于運轉中，此套裝置就必須進行廢氣處理工作，以防止在半導體制程中產生的廢氣對環境造污染與公害。

但是在實際使用過程中，發現半導體廢氣處理設備在長時間運轉時，還會在廢氣處理槽內壁上積累一層堅硬的附著物，并且會越積越厚，最后便會將廢氣處理槽堵塞，進而影響半導體的生產制造。因此，半導體廢氣處理設備長時間運轉后，必需停機進行預防性的清除作業，即將附著于廢氣處理槽內壁上的附著物予以清除。

目前，車間中在廢氣處理槽上使用的較新型的清除裝置是美國專利NO.6010576中所揭示的專利技術，此種廢氣處理槽的清除裝置是將三只刮刀沿一圓環的圓周進行等距設置，該圓環與廢氣處理槽內壁的大小相等。利用齒條的往復傳動，使三只刮刀能夠各自做120度的往復轉動，從而形成360度的環周往復轉動，將廢氣處理槽內壁上的附著物清除掉。

然而，上述美國專利中廢氣處理槽的清除裝置，在實際使用過程，因無法等圓周實施360度連續旋刮作業，且無法有效利用旋刮時的轉速，以致于其清除效率不高。

為此，尋求一種具有較佳清潔能力和工作效率的方式或裝置來處理半導體制程中廢氣處理槽內壁上的附著物已是本技術領域中極待解決的問題。

本實用新型的目的在于提供一種能夠提升清潔能力的廢氣處理槽的清除裝置。

本實用新型的另一目的在于提供一種能夠維持廢氣處理槽正常工作效率的清除裝置。

為了實現上述目的，本實用新型中廢氣處理槽的清除裝置包括有一主體，在該主體上設置有一清潔機構和一傳動機構。其中：

所述主體是在一圓形框座上設置有一上蓋板和一下蓋板，在該圓形框座內部開設有供冷卻氣體流通的通道和可容置齒盤旋轉的空間；

所述清潔機構是在一圓框形轉盤上等間距地環繞設置有一只或多只刮刀，該刮刀的刀鋒緊貼于廢氣處理槽的內壁，該轉盤設置于一齒盤上，而齒盤樞設于上述圓形框座內；

所述傳動機構設置于所述圓形框座的一側，其利用一伺服馬達來驅動一蝸桿，該蝸桿與傳動齒輪嚙合，而傳動齒輪與清潔機構內的齒盤嚙合。

另外，在所述清潔機構的圓框形轉盤上設置有多只刮刀時，可在等間環繞設置的刮刀前端緣處設置一撐架。

另外，還可在所述主體周邊設置有一氣壓冷卻機構，該氣壓冷卻機構由多個T型接頭、L型接頭和氣壓軟管相互連接而成，并與圓形框座內部開設的通道相連通。通過該氣壓冷卻機構將冷卻氣體傳遞、輸送至圓形框座內部開設的通道內，以降低清潔機構在清除廢氣處理槽內壁上的附著物時，傳動機構由于阻力而引起過熱現象，同時，可防止粉末進入到該傳動機構內。

上述清除裝置利用一傳動機構來提升清潔機構的清潔能力和扭力，并通過該傳動機構使得該清潔機構具有多段變速能力。另外，該清除裝置利用一氣壓冷卻裝置來降低廢氣的溫度，從而維持該清除裝置的正常工作效率。

下面將結合附圖對本實用新型中的具體實施例作進一步詳細說明。

圖1是本實用新型中清除裝置的立體圖；

圖2是本實用新型中清除裝置的分解立體圖；

圖3是本實用新型中清除裝置的正視剖面圖；

圖4是本實用新型中清除裝置的側視剖面圖；

圖5是本實用新型中清除裝置的另一實施例圖；

圖6是現有半導體廢氣處理設備的示意圖。