[發(fā)明專利]光盤記錄和/或再現(xiàn)設(shè)備以及像差調(diào)正方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 01145736.8 | 申請(qǐng)日: | 2001-12-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN1372255A | 公開(公告)日: | 2002-10-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 小林由平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 索尼公司 |
| 主分類號(hào): | G11B7/12 | 分類號(hào): | G11B7/12;G11B7/135 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 陳霽 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光盤 記錄 再現(xiàn) 設(shè)備 以及 調(diào)正 方法 | ||
1.一種光盤記錄和/或再現(xiàn)設(shè)備,其包括:
盤片旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其用于有選擇地在其上加載具有互不相同的記錄軌道道間距值且因此具有不同記錄密度值的多種光盤;
盤片識(shí)別裝置,其用于識(shí)別加載在所述盤片旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上的光盤種類;
光源,其用于射出具有約780nm波長(zhǎng)的光束;
物鏡,其用于會(huì)聚由所述光源射出的光束以照射所述光盤,所述物鏡具有約0.62的數(shù)值孔徑(NA);
像差形成裝置,其用于在由所述物鏡射到所述光盤上的光束中形成像差;
光接收裝置,其用于接收來自所述光盤的反射光;以及
控制裝置,其用于依據(jù)由所述盤片識(shí)別裝置識(shí)別的所述光盤的種類驅(qū)動(dòng)所述像差形成裝置,以校正在所述光束中形成的不同種類的像差,以便對(duì)所述光盤記錄和/或再現(xiàn)信息信號(hào)。
2.依照權(quán)利要求1所述的光盤記錄和/或再現(xiàn)設(shè)備,其中所述像差形成裝置由具有多個(gè)電極圖形的液晶器件構(gòu)成,且其中所述控制裝置控制施加到所述電極圖形上的驅(qū)動(dòng)電壓以校正在所述電極圖形中形成的像差。
3.依照權(quán)利要求2所述的光盤記錄和/或再現(xiàn)設(shè)備,其中由所述控制裝置校正的像差既包含象散差又包含彗形像差。
4.依照權(quán)利要求1所述的光盤記錄和/或再現(xiàn)設(shè)備,其中當(dāng)在所述盤片識(shí)別裝置中將盤片分別校驗(yàn)為第一盤片或第二盤片的時(shí)候,所述控制裝置控制施加到所述電極圖形上的驅(qū)動(dòng)電壓,以校正象散差或彗形像差。
5.一種光盤記錄和/或再現(xiàn)設(shè)備,其包括:
盤片旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其用于有選擇地在其上加載具有第一雙折射系數(shù)的第一光盤和具有第二雙折射系數(shù)的第二光盤,所述第二雙折射系數(shù)大于所述第一雙折射系數(shù);
盤片識(shí)別裝置,其用于識(shí)別加載在所述盤片旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上的光盤種類;
光源,其用于射出具有單一波長(zhǎng)的光束;
物鏡,其用于會(huì)聚由所述光源射出的光束,以將會(huì)聚光照射在加載在所述盤片旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上的光盤上;
像差形成裝置,其用于在由所述物鏡射到所述光盤上的光束中形成像差;
光接收裝置,其用于接收來自所述光盤的反射光;以及
控制裝置,其用于依據(jù)由所述盤片識(shí)別裝置識(shí)別的所述光盤的種類驅(qū)動(dòng)所述像差形成裝置,以校正在光束中形成的像差,以便對(duì)所述光盤記錄和/或再現(xiàn)信息信號(hào)。
6.依照權(quán)利要求5所述的光盤記錄和/或再現(xiàn)設(shè)備,其中所述像差形成裝置由具有多個(gè)電極圖形的液晶器件構(gòu)成,且其中所述控制裝置控制施加到所述電極圖形上報(bào)的驅(qū)動(dòng)電壓,以校正在會(huì)聚到所述光盤上的光束中形成的像差。
7.依照權(quán)利要求6所述的光盤記錄和/或再現(xiàn)設(shè)備,其中由所述控制裝置校正的像差包括象散差和彗形像差。
8.依照權(quán)利要求5所述的光盤記錄和/或再現(xiàn)設(shè)備,其中在所述盤片識(shí)別裝置將光盤分別校驗(yàn)為第一盤片或第二盤片的情況下,所述控制裝置控制施加到所述電極圖形上的驅(qū)動(dòng)電壓,以便校正象散差或彗形像差。
9.一種用于調(diào)正光盤裝置中像差的方法,光盤裝置可有選擇地加載具有第一雙折射系數(shù)的第一光盤或具有第二雙折射系數(shù)的第二光盤,所述第二雙折射系數(shù)大于所述第一雙折射系數(shù),并且光盤裝置包括位于光源和物鏡之間的液晶器件,所述物鏡將由所述光源射出的光束會(huì)聚到加載在所述光盤裝置上的光盤上,所述方法包括:
如果載入的光盤是第一光盤,則對(duì)聚焦偏差最優(yōu)化的最優(yōu)化步驟;
存儲(chǔ)在所述最優(yōu)化步驟得到的最優(yōu)化聚焦偏差值的步驟;
第一調(diào)整步驟,調(diào)整施加到所述液晶器件上的電壓,以便使沿著所述液晶器件排列方向的偏振光分量和沿著與所述液晶器件的所述排列方向垂直的方向的另一個(gè)偏振光分量之間的相位差將約為λ/2,λ是波長(zhǎng);
將在所述第一調(diào)整步驟調(diào)整的電壓作為參考電壓存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中的步驟;
第二調(diào)整步驟,調(diào)整施加到所述液晶器件上的電壓,以便基于所述參考電壓校正彗形像差;以及
將在所述第二調(diào)整步驟調(diào)整的電壓作為彗形像差校正電壓存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中的步驟。
10.依照權(quán)利要求9的像差調(diào)配正方法,其中,如果在所述第二調(diào)整步驟之后載入第二盤片,則基于在所述第一調(diào)整步驟調(diào)整的參考電壓校正象散差。
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