[發明專利]合成多層陶瓷電子部件及其制造方法無效
| 申請號: | 01143780.4 | 申請日: | 2001-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN1360320A | 公開(公告)日: | 2002-07-24 |
| 發明(設計)人: | 杉本安隆;近川修;森直哉 | 申請(專利權)人: | 株式會社村田制作所 |
| 主分類號: | H01G4/12 | 分類號: | H01G4/12;C04B35/49;H01B3/12 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所 | 代理人: | 孫敬國 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 合成 多層 陶瓷 電子 部件 及其 制造 方法 | ||
1、一種包括層迭體的合成多層陶瓷電子部件,其特征在于,包括
具有高介電常數材料的高介電常數層,所述高介電常數材料包括(a)xBaO-yTiO2-zReO3/2介質,其中x、y和z為%克分子,并滿足條件8≤x≤18,52.5≤y≤65,20≤z≤40,且x+y+z=100,Re為稀土元素,和(b)第一玻璃成分,其中高介電常數層的相對介電常數εγ等于或大于20,和
至少一個包括低介電常數材料的低介電常數層,所述低介電常數材料包含陶瓷與第二玻璃成分的合成物,其中低介電常數層的相對介電常數εγ小等或等于10。
2、如權利要求1所述的合成多層陶瓷電子部件,其特征在于,
高介電常數中的第一玻璃成分包括
約10~25%重量的SiO2,
約10~40%重量B2O3,
約25~55%重量MgO,
0~20%重量ZnO,
0~15%重量Al2O3,
約0.5~10%重量的Li2O,和
0~10%重量的RO,其中R至少是選自Ba、Sr和Ca的一種。
3、如權利要求1所述的合成多層陶瓷電子部件,其特征在于,
根據高介電常數材料的總重量,作為輔助成分,高介電常數材料還包括小于或等于3%重量的CuO和0.1~10%重量的TiO2。
4、如權利要求1所述的合成多層陶瓷電子部件,其特征在于,
相對于65~85%重量的xBaO-yTiO2-zReO3/2介質,高介電常數材料包括15~35%重量的第一玻璃成分。
5、如權利要求1所述的合成多層陶瓷電子部件,其特征在于,
低介電常數材料中的陶瓷是MgAl2O4,
第二玻璃成分包括
約30~50%克分子的二氧化硅SiO2,
0~20%克分子的硼氧化物B2O3,和
約20~55%克分子的氧化鎂MgO。
6、如權利要求5所述的合成多層陶瓷電子部件,其特征在于,
根據玻璃成分的總含量,第二玻璃成分還包括小于或等于30%克分子的至少一種選自CaO、SrO和BaO的氧化物。
7、如權利要求5所述的合成多層陶瓷電子部件,其特征在于,
根據第二玻璃成分的總重量,第二玻璃成分包括小于或等于15%克分子的鋁氧化物Al2O3。
8、如權利要求5所述的合成多層陶瓷電子部件,其特征在于,
根據第二玻璃成分的總重量,第二玻璃分成還包括小于或等于10%重量的至少一種選自Li2O、K2O和Na2O的堿金屬氧化物。
9、如權利要求5所述的合成多層陶瓷電子部件,其特征在于,
根據低介電常數材料的總重量,所述低介電常數材料還包括小于或等于3%重量的氧化銅CuO。
10、如權利要求1所述的合成多層陶瓷電子部件,其特征在于,
低介電常數材料中的陶瓷是MgAl2O4,
第二玻璃成分是硼硅玻璃,
低介電常數層包括沉淀的晶相,含有MgAl2O4晶相、至少Mg3B2O6與Mg2B2O5晶相之一和任選的Mg2SiO4晶相。
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