[發(fā)明專利]管靶的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 01143725.1 | 申請日: | 2001-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN1363716A | 公開(公告)日: | 2002-08-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | R·赫克;R·于特納;D·盧普頓;E·邁爾;P·麥恩茨;H·曼哈德特;B·施滕格;H·青格 | 申請(專利權(quán))人: | W.C.賀利氏股份有限兩合公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34;B22D19/16;B22D27/04 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 蔡民軍,趙辛 |
| 地址: | 聯(lián)邦德*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制造 方法 | ||
1.一種陰極濺射設(shè)備的管靶的制造方法,其中該管靶由一個金屬內(nèi)管和一個同心包圍該內(nèi)管的金屬外管組成,該內(nèi)管用具有第一熔點TS1≥900K的第一種材料,而該外管則用具有第二熔點TS2≤800K的第二種材料制成,且該外管的內(nèi)直徑與該內(nèi)管的外直徑以形狀相合的方式進行機械的固定連接,其特征為:該外管通過第二種材料在熔融狀態(tài)下澆入一個豎放的、加熱的圓筒形鑄模中來形成,該鑄模具有一根加熱的棒,該棒由該內(nèi)管構(gòu)成;在用熔融的第二種材料注滿該鑄模和內(nèi)管之間的空腔后,在該內(nèi)管和鑄模之間產(chǎn)生第一溫度梯度;在鑄模的上側(cè)和下側(cè)之間產(chǎn)生第二溫度梯度;該外管同時從內(nèi)向外和從下向上進行冷卻。
2.按權(quán)利要求1的方法,其特征為,該鑄模通過至少兩個單獨調(diào)節(jié)的、分別徑向包圍該鑄模的加熱裝置進行加熱。
3.按權(quán)利要求2的方法,其特征為,作為加熱裝置采用電加熱墊。
4.按權(quán)利要求1至3至少一項的方法,其特征為,該內(nèi)管通過它的內(nèi)直徑用熱氣體或蒸汽加熱。
5.按權(quán)利要求1至4至少一項的方法,其特征為,該鑄模和該內(nèi)管被預(yù)熱到400K至850K的溫度范圍。
6.按權(quán)利要求5的方法,其特征為,該鑄模至少被預(yù)熱到高于第二種材料的熔點TS2的溫度。
7.按權(quán)利要求1至6至少一項的方法,其特征為,作為第一種材料用優(yōu)質(zhì)鋼、鋁或銅。
8.按權(quán)利要求1至7至少一項的方法,其特征為,作為第二種材料用錫、鋅、鉍、銦或它們的合金。
9.按權(quán)利要求1至8至少一項的方法,其特征為,內(nèi)管在澆注前進行預(yù)處理,即在其外直徑上涂敷一層厚度為5微米至500微米的粘附中介層。
10.按權(quán)利要求9的方法,其特征為,在用一種熔劑的情況下,涂敷一層焊料作為粘附中介層。
11.按權(quán)利要求9的方法,其特征為,該粘附中介層至少部分地通過電鍍或無電流沉積來制成。
12.按權(quán)利要求9的方法,其特征為,該粘附中介層通過熱噴涂來制成。
13.按權(quán)利要求8、9和10的方法,其特征為:采用優(yōu)質(zhì)鋼制成的內(nèi)管;在用熔劑的情況下,涂敷一層焊料作為粘附中介層;且該焊料層至少部分地由第二種材料組成。
14.按權(quán)利要求8、9和11的方法,其特征為:采用鋁或銅制成的內(nèi)管;該粘附中介層至少部分地通過電鍍或無電流沉積來制成;且該粘附層至少部分地由第二種材料組成。
15.按權(quán)利要求12的方法,其特征為:該粘附中介層通過熱噴涂鎳來制成。
16.按權(quán)利要求1至15至少一項的方法,其特征為,通過停止內(nèi)管的內(nèi)直徑的加熱來產(chǎn)生第一溫度梯度。
17.按權(quán)利要求16的方法,其特征為,通過用冷氣或蒸汽流入內(nèi)管的內(nèi)直徑來產(chǎn)生第一溫度梯度。
18.按權(quán)利要求2至17至少一項的方法,其特征為,第二溫度梯度通過停止至少兩個在時間上延遲的加熱裝置來產(chǎn)生。
19.按權(quán)利要求1至18至少一項的方法,其特征為,鑄模徑向由至少兩部分組成。
20.按權(quán)利要求1至19至少一項的方法,其特征為,該外管制作成3毫米至12毫米的厚度范圍。
21.按權(quán)利要求1至20任下項的方法來制造陰極濺射設(shè)備的管靶的應(yīng)用,其中外管具有的含氧量≤100ppm,且具有由垂直于該外管的表面排列的柱狀晶粒組成的結(jié)構(gòu)。
22.按權(quán)利要求21的應(yīng)用,其特征為,含氧量≤50ppm。
23.按權(quán)利要求21至22任一項的應(yīng)用,其特征為,柱狀晶粒的平均粒度為0.3毫米至15毫米。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





