[發(fā)明專利]一種半導(dǎo)體器件的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 01142960.7 | 申請日: | 1995-02-03 |
| 公開(公告)號: | CN1361551A | 公開(公告)日: | 2002-07-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 大谷久;宮永昭治;竹山順一 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社半導(dǎo)體能源研究所 |
| 主分類號: | H01L27/00 | 分類號: | H01L27/00;G02F1/136 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 郭廣迅 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 半導(dǎo)體器件 制造 方法 | ||
1.一種半導(dǎo)體器件,其包括:
基片;
多個(gè)像素,每個(gè)像素包含在所述基片之上以矩陣形式排列的第一薄膜晶體管;
至少一個(gè)用于驅(qū)動所述多個(gè)像素的驅(qū)動電路,其包含多個(gè)在所述基片之上形成的第二薄膜晶體管;
包含多個(gè)在所述基片之上形成的第三薄膜晶體管的存儲器,
其中所述第一、第二和第三薄膜晶體管中的每一個(gè)包含溝道,所述溝道含有沿平行于所述基片的方向延伸的結(jié)晶硅。
2.一種半導(dǎo)體器件,其包括:
基片;
多個(gè)像素,每個(gè)像素包含在所述基片之上以矩陣形式排列的第一薄膜晶體管;
至少一個(gè)用于驅(qū)動所述多個(gè)像素的驅(qū)動電路,其包含多個(gè)在所述基片之上形成的第二薄膜晶體管;
包含多個(gè)在所述基片之上形成的第三薄膜晶體管的校正存儲器,
其中所述第一、第二、第三和第四薄膜晶體管中的每一個(gè)包含溝道,所述溝道含有沿平行于所述基片的方向延伸的結(jié)晶硅。
3.一種半導(dǎo)體器件,其包括:
基片;
多個(gè)像素,每個(gè)像素包含在所述基片上以矩陣形式排列的第一薄膜晶體管;
至少一個(gè)用于驅(qū)動所述多個(gè)像素的驅(qū)動電路,其包含多個(gè)在所述基片之上形成的第二薄膜晶體管;
中央處理器,其包含多個(gè)在所述基片之上的第三薄膜晶體管,操作上與所述驅(qū)動電路連接,
其中所述第一、第二、第三和第四薄膜晶體管中的每一個(gè)包含溝道,所述溝道含有沿平行于所述基片的方向延伸的結(jié)晶硅。
4.一種半導(dǎo)體器件,其包括:
基片;
多個(gè)像素,每個(gè)像素包含在所述基片之上以矩陣形式排列的第一薄膜晶體管;
至少一個(gè)用于驅(qū)動所述多個(gè)像素的驅(qū)動電路,其包含多個(gè)在所述基片之上形成的第二薄膜晶體管;
輸入端,其包含多個(gè)在所述基片之上的第三薄膜晶體管,操作上與所述驅(qū)動電路連接,
其中所述第一、第二、第三和第四薄膜晶體管中的每一個(gè)包含溝道,所述溝道含有沿平行于所述基片的方向延伸的結(jié)晶硅。
5.一種半導(dǎo)體器件,其包括:
基片;
多個(gè)像素,每個(gè)像素包含在所述基片之上以矩陣形式排列的第一薄膜晶體管;
至少一個(gè)用于驅(qū)動所述多個(gè)像素的驅(qū)動電路,其包含多個(gè)在所述基片之上的第二薄膜晶體管;
存儲器,其包含多個(gè)在所述基片之上的第三薄膜晶體管,
其中所述第一、第二、第三和第四薄膜晶體管中的每一個(gè)包含結(jié)晶硅,所述結(jié)晶硅是通過下列步驟形成的:
在所述基片之上形成非晶硅膜;
通過施加到所述非晶硅的第一能量,形成與所述非晶硅接觸或在所述非晶硅之內(nèi)的晶核;
通過施加到所述基片的第二能量,沿平行于所述基片的方向由所述晶核生長晶體。
6.一種半導(dǎo)體器件,其包括:
基片;
多個(gè)像素,每個(gè)像素包含在所述基片之上以矩陣形式排列的第一薄膜晶體管;
至少一個(gè)用于驅(qū)動所述多個(gè)像素的驅(qū)動電路,其包含多個(gè)在所述基片之上的第二薄膜晶體管;
校正存儲器,其包含多個(gè)在所述基片之上的第三薄膜晶體管,
其中所述第一、第二、第三和第四薄膜晶體管中的每一個(gè)包含結(jié)晶硅,所述結(jié)晶硅是通過下列步驟形成的:
在所述基片之上形成非晶硅膜;
通過施加到所述非晶硅的第一能量,形成與所述非晶硅接觸或在所述非晶硅之內(nèi)的晶核;
通過施加到所述基片的第二能量,沿平行于所述基片的方向由所述晶核生長晶體。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





