[發明專利]用一次光刻產生T形柵的移相掩模光刻方法無效
| 申請號： | 01142117.7 | 申請日： | 2001-09-13 |
| 公開（公告）號： | CN1158570C | 公開（公告）日： | 2004-07-21 |
| 發明（設計）人： | 韓安云;張倩;王維軍;王育中;田振文;樊照田 | 申請（專利權）人： | 信息產業部電子第十三研究所 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F1/00;H01L21/28 |
| 代理公司： | 石家莊冀科專利事務所有限公司 | 代理人： | 高錫明 |
| 地址： | 050081河*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一次 光刻 產生 移相掩模 方法 | ||
【權利要求書】：
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