[發明專利]盤裝置

有效

• 申請號: 01141858.3
• 申請日: 2001-09-20
• 公開（公告）號: CN1347111A
• 公開（公告）日: 2002-05-01
• 發明（設計）人: 稻田真寬;滝沢輝之;佐治義人;西野幸良
• 申請（專利權）人: 松下電器產業株式會社
• 主分類號: G11B17/22
• 分類號: G11B17/22
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 劉興鵬

1.一種盤裝置，包括：

一個轉盤，其具有一個可以放置盤的表面并且可以繞著一條旋轉軸線旋轉；

一個盤夾持機構，其可以處于將盤夾持在轉盤上從而可以繞著旋轉軸線旋轉的第一狀態和與第一狀態不同的第二狀態；

一個第一接觸件；以及

一個移動機構，其用于使第一接觸件和轉盤彼此相對于對方相對移動，

其特征在于，當盤夾持機構處于第二狀態時，移動機構相對于第一接觸件相對移動轉盤，以使第一接觸件接觸盤；而當第一接觸件接觸到盤時，移動機構操作，以使第一接觸件向盤上施加一個沿著將盤按壓到轉盤上的方向的力，從而使盤夾持機構從第二狀態變為第一狀態。

2.根據權利要求1所述的盤裝置，其特征在于，第一接觸件位于一個固定位置上，移動機構帶動轉盤上升和下降，從而使轉盤相對于第一接觸件相對移動。

3.根據權利要求1所述的盤裝置，其特征在于，移動機構相對于第一接觸件相對移動轉盤，以使盤夾持機構在時間t₁時處于第一狀態，盤夾持機構在時間t₁之后的時間t₄時從第二狀態向第一狀態變化，盤夾持機構在時間t₄之后的時間t₅時處于第一狀態。

4.根據權利要求1所述的盤裝置，其特征在于，盤包含一個內側區域，第一接觸件接觸盤的內側區域。

5.根據權利要求1所述的盤裝置，還包括一個外殼，其中第一接觸件是一個設在外殼的一個部位上的凸塊。

6.根據權利要求5所述的盤裝置，其特征在于，凸塊是環形的。

7.根據權利要求1所述的盤裝置，其特征在于，第一接觸件是一個設在容納著盤裝置的信息裝置的一個部位上的凸塊。

8.根據權利要求7所述的盤裝置，其特征在于，凸塊是環形的。

9.根據權利要求4所述的盤裝置，其特征在于，內側區域是非記錄區域。

10.根據權利要求2所述的盤裝置，還包括一個升降底座，其通過一個置于它與轉盤之間的彈性件支承著轉盤，其中移動機構通過升高和降低升降底座而升高和降低轉盤。

11.根據權利要求10所述的盤裝置，其特征在于，彈性件用作一個減振件，用以減小盤裝置的振動。

12.根據權利要求1所述的盤裝置，其特征在于，當第一接觸件接觸盤時，轉盤基本上平行于第一接觸件。

13.根據權利要求1所述的盤裝置，其特征在于，當第一接觸件接觸盤時，轉盤相對于第一接觸件呈預定角度。

14.一種盤裝置，包括：

一個轉盤，其具有一個可以放置盤的表面并且可以繞著一條旋轉軸線旋轉；

一個盤夾持機構，其可以處于將盤夾持在轉盤上從而可以繞著旋轉軸線旋轉的第一狀態和與第一狀態不同的第二狀態；

一個第二接觸件；以及

一個移動機構，其用于使第二接觸件和轉盤彼此相對于對方相對移動，

其特征在于，當盤夾持機構處于第一狀態時，移動機構相對于第二接觸件相對移動轉盤，以使第二接觸件接觸盤；而當第二接觸件接觸到盤時，移動機構操作，以使第二接觸件向盤上施加一個沿著將盤從轉盤上分離的方向的力，從而使盤夾持機構從第一狀態變為第二狀態。

15.根據權利要求14所述的盤裝置，其特征在于，第二接觸件位于一個固定位置上，移動機構帶動轉盤上升和下降，從而使轉盤相對于第二接觸件相對移動。

16.根據權利要求14所述的盤裝置，其特征在于，移動機構相對于第二接觸件相對移動轉盤，以使盤夾持機構在時間t₇時處于第一狀態，盤夾持機構在時間t₇之后的時間t₈時從第一狀態向第二狀態變化，盤夾持機構在時間t₈之后的時間t₉時處于第二狀態。

17.根據權利要求14所述的盤裝置，其特征在于，盤包含一個內側區域和一個外側區域，它們均為非記錄區域，第二接觸件接觸盤的內側區域和外側區域中的一個。