[發(fā)明專利]蔭罩無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 01139311.4 | 申請(qǐng)日: | 2001-08-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1349243A | 公開(kāi)(公告)日: | 2002-05-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 広部吉紀(jì);荻尾卓也;牧田明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 大日本印刷株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01J29/07 | 分類號(hào): | H01J29/07 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人: | 楊梧,馬高平 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蔭罩 | ||
???????????????????????技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及陰極射線管的蔭罩,更具體地說(shuō),本發(fā)明特別是涉及最好用于陰極射線管的、抗沖擊強(qiáng)度優(yōu)良的蔭罩。
???????????????????????背景技術(shù)
圖8為一般的蔭罩51的截面形式的一個(gè)實(shí)例。蔭罩51安裝于陰極射線管內(nèi)部,采用該蔭罩,以便在陰極射線管的熒光面上,形成圓形的電子束光點(diǎn)。在這樣的蔭罩51上,以規(guī)定的圖形形成規(guī)定形狀的通孔。該通孔通過(guò)對(duì)金屬薄板進(jìn)行蝕刻處理形成。
通孔由電子束射出側(cè)的內(nèi)側(cè)孔部和電子束射出側(cè)的外側(cè)孔部形成。該外側(cè)孔部的面積由大于內(nèi)側(cè)孔部的面積形成。另外,外側(cè)孔部的面積與內(nèi)側(cè)孔部的面積在蔭罩51的各部分,以幾乎相同的大小形成。
具體來(lái)說(shuō),如圖8所示,在形成于蔭罩51的中間部的通孔52a和形成于蔭罩51的周邊部的通孔52b相對(duì)內(nèi)側(cè)孔部54a,54b的外側(cè)孔部53a,53b的形成位置是不同的。但是,該外側(cè)孔部53a,53b的相應(yīng)開(kāi)孔尺寸或開(kāi)孔面積與其形成位置無(wú)關(guān),以幾乎相同的大小形成。另外,內(nèi)側(cè)孔部54a,54b的相應(yīng)開(kāi)孔尺寸和開(kāi)孔面積均與其形成位置無(wú)關(guān),以幾乎相同的大小形成。此外,還具有下述實(shí)例,其中在周邊部的通孔52b中,外側(cè)孔部53b的開(kāi)孔尺寸或開(kāi)孔面積,稍稍大于中間部的外側(cè)孔部53a的開(kāi)孔尺寸或開(kāi)孔面積,以便使電子束不被作為外側(cè)孔部54b的側(cè)壁并連接蔭罩51的外周側(cè)的側(cè)壁55b的部分所遮擋。
在這樣的類型的蔭罩用于顯示面?zhèn)瘸是嫘螤畹囊话愕年帢O射線管的場(chǎng)合,即使在對(duì)陰極射線管受到下落沖擊等的情況下,仍未產(chǎn)生太大的問(wèn)題。
但是,如果把該蔭罩用在顯示面?zhèn)仁瞧街钡亩鵁晒饷鎮(zhèn)鹊陌霃酱笥谝话愕年帢O射線管上,則由于下落沖擊等原因,便曾確認(rèn)有蔭罩的中間部凹陷的危險(xiǎn)(參照?qǐng)D10的虛線部)。
???????????????????????發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述問(wèn)題而提出的,本發(fā)明以提高使用于扁平型的陰極射線管后的蔭罩的抗沖擊強(qiáng)度為目的,本發(fā)明提供與使外側(cè)孔部的開(kāi)孔面積隨著通孔的的形成位置變化的第1實(shí)施方式有關(guān)的蔭罩,和與使外側(cè)孔部的開(kāi)孔尺寸隨著通孔的形成位置變化的第2實(shí)施方式有關(guān)的蔭罩。
與本發(fā)明的第1實(shí)施方式有關(guān)的蔭罩,在上面排列有由電子束射入側(cè)的內(nèi)側(cè)孔部和上述電子束射出側(cè)的外側(cè)孔部組成的通孔,在被照射面上形成規(guī)定形狀的電子束光點(diǎn),其特征在于:形成于上述蔭罩的周邊部的通孔的外側(cè)孔部的開(kāi)孔面積小于形成于蔭罩的中間部的通孔的外側(cè)孔部的開(kāi)孔面積。
按照該發(fā)明,由于形成于蔭罩的周邊部的通孔的外側(cè)孔部的開(kāi)孔面積小于形成于蔭罩的中間部的通孔的外側(cè)孔部的開(kāi)孔面積,故該蔭罩的周邊部中的未被蝕刻處理的金屬部分大于蔭罩的中間部。因此,蔭罩的中間部比周邊部輕一些,另外由于該中間部通過(guò)較重的高強(qiáng)度的周邊部支承,故即使在將蔭罩安裝于陰極射線管上后,受到下落沖擊等的應(yīng)力的情況下,蔭罩仍不產(chǎn)生凹陷等變形。
在本發(fā)明的與上述第1實(shí)施方式有關(guān)的蔭罩中,如設(shè)上述蔭罩的中間部的外側(cè)孔部的開(kāi)孔面積為100,則上述蔭罩的周邊部的外側(cè)孔部的開(kāi)孔面積最好在80~96的范圍內(nèi)。
本發(fā)明的與上述第1實(shí)施方式有關(guān)的蔭罩特征在于:上述通孔的外側(cè)孔部的開(kāi)孔面積按照對(duì)應(yīng)于距蔭罩的中心的距離,以規(guī)定的變化率連續(xù)地變化。
按照該發(fā)明,由于通孔的外側(cè)孔部的開(kāi)孔面積按照對(duì)應(yīng)于距蔭罩的中心的距離,以規(guī)定的變化率連續(xù)地減小的方式變化,故上述蔭罩形成同心圓狀的強(qiáng)度分布,可從中心朝向周邊部逐漸地增加該蔭罩的強(qiáng)度。由于這樣的蔭罩的強(qiáng)度分布是有規(guī)律的,故即使在安裝于陰極射線管上后,受到下落沖擊等的應(yīng)力的情況下,蔭罩仍不產(chǎn)生凹陷等的變形。
本發(fā)明的與第1實(shí)施方式有關(guān)的蔭罩的特征在于:形成于上述蔭罩的外周的通孔在全周的范圍,以相同的開(kāi)孔面積形成,位于該通孔,與蔭罩的中心的通孔之間的通孔的開(kāi)孔面積以規(guī)定的變化離連續(xù)地變化。
按照該發(fā)明,由于形成于蔭罩的外周的通孔在全周的范圍,以相同的開(kāi)孔面積形成,故可形成在外周具有相同強(qiáng)度的通孔的蔭罩。另外,由于位于外周的通孔與蔭罩的中心的通孔之間的通孔中的,外側(cè)孔部的開(kāi)孔面積以規(guī)定的變化率連續(xù)地減小的方式變化,故可從中心朝向周邊部,逐漸地增加該蔭罩的強(qiáng)度。由于這樣的蔭罩的強(qiáng)度平衡是很規(guī)則的,故即使在安裝于陰極射線管上后,受到下落沖擊等的應(yīng)力的情況下,蔭罩也不產(chǎn)生變形。
本發(fā)明的與上述第1實(shí)施方式有關(guān)的蔭罩的特征在于:用于扁平型的陰極射線管。
按照該發(fā)明,在用于熒光面?zhèn)鹊陌霃捷^大的扁平型的陰極射線管的場(chǎng)合,即使在受到下落沖擊等的應(yīng)力的情況下,蔭罩也不產(chǎn)生變形。
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