[發(fā)明專利]曝光方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 01137027.0
• 申請日: 2001-10-19
• 公開（公告）號: CN1350205A
• 公開（公告）日: 2002-05-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 竹內(nèi)幸一
• 申請（專利權(quán)）人: 索尼株式會社
• 主分類號: G03F7/039
• 分類號: G03F7/039;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 杜日新

1.一種圖形形成方法，包括以下步驟：

襯底上形成含有光酸發(fā)生劑的第1光刻膠圖形；

光輻射第1光刻膠圖形的曝光表面；

光輻射后，襯底上涂敷覆蓋第1光刻膠圖形的含有能與酸反應(yīng)的交聯(lián)劑的光刻膠膜；

在第1光刻膠圖形與光刻膠層之間的界面處引起交聯(lián)反應(yīng)，生長交聯(lián)層；和

形成交聯(lián)層和第1光刻膠圖形構(gòu)成的第2光刻膠圖形。

2.按權(quán)利要求1的圖形形成方法，其中，光是選自ArF準(zhǔn)分子激光和KrF準(zhǔn)分子激光的光之一。

3.按權(quán)利要求1的圖形形成方法，其中，形成第1光刻膠圖形的含有光酸發(fā)生劑的基礎(chǔ)樹脂是選自甲基丙烯酸樹脂和環(huán)烯基樹脂中的一種樹脂。

4.按權(quán)利要求1的圖形形成方法，其中，含有能與酸反應(yīng)的交聯(lián)劑的光刻膠膜的基礎(chǔ)樹脂是選自聚乙烯醇系樹脂，聚丙烯酸系樹脂和聚乙烯醇縮醛系樹脂的一種樹脂。