[發明專利]導光板及其制造方法、面發光裝置及液晶顯示裝置無效
| 申請號: | 01136864.0 | 申請日: | 2001-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN1351266A | 公開(公告)日: | 2002-05-29 |
| 發明(設計)人: | 石高良彥 | 申請(專利權)人: | 阿爾卑斯電氣株式會社 |
| 主分類號: | G02B1/11 | 分類號: | G02B1/11;B05D1/18;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 導光板 及其 制造 方法 發光 裝置 液晶 顯示裝置 | ||
1.一種導光板,它具備基體和設在基體表面的防反射膜,基體具有出射面和反射面,出射面出射通過側端面導入內部的光,反射面位于與出射面相反的一側,它將在內部傳輸的光反射,其特征在于:
所述防反射膜至少設在所述出射面和反射面上。
2.根據權利要求1所述的導光板,其特征在于:
在所述反射面上設有多個斜面部以反射在所述基體內部傳輸的光,改變該光的傳輸方向。
3.根據權利要求1所述的導光板,其特征在于:
所述防反射膜的反射率在光波波長550nm時小于A1膜反射率的1%。
4.根據權利要求3所述的導光板,其特征在于:
所述防反射膜的反射率在光波波長380nm~780nm范圍內小于A1膜反射率的2.5%。
5.根據權利要求4所述導光板,其特征在于:
所述防反射膜的反射率在光波波長450nm~700nm范圍內小于A1膜反射率的1.5%。
6.根據權利要求1所述的導光板,其特征在于:
所述基體的折射率大于1.48,而且所述防反射膜的折射率小于1.35。
7.根據權利要求1所述的導光板,其特征在于:
所述防反射膜采用浸漬涂敷法形成。
8.根據權利要求7所述的導光板,其特征在于:
所述防反射膜是單層結構。
9.一種導光板制造方法,包含基體樹脂溶液涂敷工程和該基體表面形成防反射膜的工程,樹脂溶液涂敷工程是將在一個面上呈帶狀形成了多個楔子形溝槽的平板狀基體浸漬到含有能形成防反射膜的樹脂材料的樹脂溶液中后,將該基體從所述樹脂溶液中提起;防反射膜形成工程是將所述基體乾燥后在該基體的表面上形成防反射膜;其特征在于:
所述基體從樹脂溶液提升的方向與所述基體溝槽的長度方向平行。
10.一種面發光裝置,其特征在于:
它具備根據權利要求1所述的導光板和配設在該導光板入射端面部的光源。
11.根據權利要求10所述的面發光裝置,其特征在于:
在所述導光板的所述反射面上,設有多個斜面部,以反射所述基體內部傳輸的光、改變該光的傳輸方向。
12.根據權利要求10所述的面發光裝置,其特征在于:
在所述導光板中所述防反射膜的反射率在光波波長為550nm時,小于A1膜反射率的1%。
13.根據權利要求12所述的面發光裝置,其特征在于:
在所述導光板中所述防反射膜的反射率在光波波長380nm~780nm范圍內,小于A1膜反射率的2.5%。
14.根據權利要求13所述的面發光裝置,其特征在于:
在所述導光板中所述防反射膜的反射率在光波波長為450nm~700nm范圍內,小于A1膜反射率的1.5%。
15.根據權利要求10所述的面發光裝置,其特征在于:
在所述導光板中所述基體的折射率大于1.48,而且所述防反射膜的折射率小于1.35。
16.根據權利要求10所述的面發光裝置,其特征在于:
在所述導光板中所述防反射膜是用浸漬涂敷法形成的。
17.根據權利要求16所述的面發光裝置,其特在于:
在所述導光板中所述防反射膜是單層結構。
18.一種液晶顯示裝置,其特征在于:
具備權利要求10所述的面發光裝置。
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