[發明專利]用于光盤的記錄方法、記錄機器、重放方法和重放機器無效
| 申請號: | 01136181.6 | 申請日: | 1995-11-10 |
| 公開(公告)號: | CN1392540A | 公開(公告)日: | 2003-01-22 |
| 發明(設計)人: | 南野順一;古宮成;小石健二;上岡優一 | 申請(專利權)人: | 松下電器產業株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/00 | 分類號: | G11B7/00;G11B7/004 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人: | 王敬波 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 光盤 記錄 方法 機器 重放 | ||
1、一種光盤記錄方法,用把光束照射到光盤上來形成表示數據的標記于光盤上的辦法將數據記錄到含有紋間和紋道的光盤上,其特征是:
照射光束的條件依據表示數據的標記所形成的位置是落在紋間上還是紋道上而變化,使形成在紋間上的標記尺寸等于形成在紋道上的標記的尺寸。
2、根據權利要求1的光盤記錄方法,其特征是光束是依據光束是照射在紋間上還是紋道上而以不同的強度來照射的。
3、根據權利要求2的光盤記錄方法,其特征是照射在紋間上光束強度大于照射在紋道上的光束強度。
4、一種光盤記錄機器,用于使用把光束照射到光盤上來形成表示數據的標記于光盤上的辦法將數據記錄到含有紋間和紋道的光盤上,其特征是:
該光盤記錄機器包括一個裝置,用于根據表示數據的標記所形成的位置是落在紋間上還是紋道上來變化照射光束的條件,使形成于紋間上的標記尺寸等于形成于紋道上的標記尺寸。
5、根據權利要求4的光盤記錄機器,其特征是還包括一個裝置,用于以根據光束是照在紋間上還是紋道上而以不同的強度來照射光束而記錄數據。
6、根據權利要求5的光盤記錄機器,其特征是照在紋間上的光束的強度高于照在紋道上的光束的強度。
7、根據權利要求4的光盤記錄機器,其特征是包括:
一個裝置,用于產生表示光束的光點是位于紋間上還是紋道上的紋間/紋道位置信息;以及
一個裝置,用于以根據紋間/紋道位置信息而不同強度的光束進行照射。
8、根據權利要求4的光盤記錄機器,其特征是包括:
數據區分裝置,用于將輸入的數據分為第一數據和第二數據;
第一光束產生裝置,用于以照射有第一強度的光束于紋間來將第一數據記錄在紋間上;以及
第二光束產生裝置,用于以照射有第二強度的光束于紋道來將第二數據記錄在紋道上。
9、根據權利要求7的光盤記錄機器,其特征是光盤含有相態可變的記錄層。
10、根據權利要求1的光盤記錄方法,其特征是光束以根據光束是照在紋間上還是紋道上而不同的時間期來進行照射。
11、根據權利要求10的光盤記錄方法,其特征是光束照在紋間上的時間間隔比光束照在紋道上的時間間隔長。
12、根據權利要求1的光盤記錄方法,其特征是包括一個為了形成標記而照射光束n次(n為大于或等于2的整數)的步驟,其中實行第一次照射的時間點和實行第n次照射的時間點是根據光束是照在紋間上還是紋道上而變化。
13、根據權利要求12的光盤記錄方法,其特征是對于紋間第一次照射和第n次照射之間的間隔比對于紋道的第一次照射和第n次照射之間的間隔長。
14、根據權利要求4的光盤記錄機器,其特征是包括:
產生紋間/紋道位置信息的裝置,表示光束的光點是位于紋間還是在紋道上;以及
一個裝置,用于為了形成標記而發射光束n次(n是一個等于或大于2的整數),和根據光束照在紋間上還是紋道上而變化實行第一次照射的時間點和第n次照射的時間點。
15、根據權利要求14的光盤記錄機器,其特征是對紋間的第一次照射和第n次照射之間的間隔比對紋道的第一次照射和第n次照射之間的間隔長。
16、一種光盤記錄方法,用把光束照射到光盤上來形成表示數據的標記于光盤上的辦法將數據記錄到含有紋間和紋道的光盤上,其特征是
記錄數據的條件隨光束是照在紋間上還是紋道上而變化。
17、根據權利要求16的光盤記錄方法,其特征是以依據光束是照射在紋間上還是紋道上而以不同的密度來記錄數據。
18、根據權利要求17的光盤記錄方法,其特征是記錄在紋間上的密度比記錄在紋道上的密度低。
19、一種光盤重放方法,對用照射光束于光盤辦法將記錄在含有紋間和紋道的光盤上的數據進行重放,其特征是包括一個組合數據的步驟,此數據從紋間及紋道重放出來,并且在記錄在紋間的數據的記錄密度和記錄在紋道的數據的記錄密度根據是記錄在紋間上還是紋道上而不同的情況下有不同的轉換率。
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