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[發明專利]一種顯現非平面光滑客體上痕跡的方法無效

專利信息
申請號: 01135280.9 申請日: 2001-12-17
公開(公告)號: CN1351858A 公開(公告)日: 2002-06-05
發明(設計)人: 魏晨光;張濤;許小京;俞濤;宋炳干 申請(專利權)人: 山東省公安廳物證鑒定研究中心
主分類號: A61B5/117 分類號: A61B5/117;G03B15/00;G03B13/00
代理公司: 濟南三達專利事務所 代理人: 劉旭東
地址: 250001 *** 國省代碼: 山東;37
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摘要:
搜索關鍵詞: 一種 顯現 平面 光滑 客體 痕跡 方法
【說明書】:

(一)技術領域

發明涉及一種顯現非平面光滑客體上痕跡的方法,屬于刑偵技術領域。

(二)背景技術

在刑事案件的現場勘查中,經常遇到光滑客體表面疑難指印痕跡的拍照提取問題。由于此類客體表面上的疑難痕跡在一般漫射光照條件下,反差非常微弱,甚至很難觀察到,而常用的方法是使用以定向反射原理設計的定向反射鏡、同軸光攝影儀、近軸光攝影儀等儀器,它們解決的對象都是平面光滑客體。由于這些儀器使用的光源只有一個,每次拍照的光照方向是固定不變的,且光照面積的變化范圍小。因此,它們所能解決的問題是有前提的,那就是痕跡所處的位置必須是平面光滑的,且痕跡面積不大。由于實際客體是千差萬別不可能都是平面的,導致在實際工作中常常達不到理論上的效果,使許多可以顯現的潛在指印紋細節丟失,或部分痕跡無法提取。也就是說,使用目前的儀器或方法只能解決部分平面光滑客體上的提取問題,而對于非平面光滑客體表面上面積較大的疑難指印痕跡,則沒有好的解決辦法。目前,對于非平面光滑客體表面上面積較大疑難指印痕跡顯現的方法基本上有兩類:一是對于可以用粉末顯現的客體,進行刷顯,但這有損檢驗,一旦失敗將造成無法挽回的損失。二是對于指印有檢驗價值的部分進行有選擇的拍照,或者對痕跡進行分片拍照,然后拼接。以上做法破壞了痕跡物證檢驗程序的完整性,對刑事訴訟是非常不利的。

(三)發明內容

我們知道,利用定向反射原理顯現痕跡,是在與照明光線入射角相等的反射角方向上接收記錄被檢驗物質的反射光亮度分布的,是利用光滑客體表面與非定向反射物質之間對光線反射形成的亮度反差,來達到提取弱反差痕跡的目的。根據這一原理,對于非平面光滑客體上面積較大的痕跡,只要有足夠多的垂直光形成多個光斑或光源產生的光斑面積足夠大,可包含整個痕跡,是可以進行無損顯現提取的。

為了解決現有技術和方法存在的無法顯現非平面光滑客體表面上面積較大痕跡的難題,本發明提出了一種顯現非平面光滑客體上大面積痕跡的方法。

本發明是由如下技術方案實現的:

1.在暗室內固定好相機及客體,將照射光源通過可伸縮懸掛壁,固定在導軌上;

2.然后調整照射光源的位置,距客體40~70cm,保證入射光以入射角度θ1照射

??到客體上,反射光以反射角θ2反射到相機內;

3.通過伸縮掛壁移動照射光源,用照射光源產生的光斑對整個痕跡進行“掃描”,

??同時在取景器中觀察痕跡的位置、反差及面積,使痕跡全部清晰地成像在取景

??器內;

4.調好光圈,裝上帶有膠片的暗盒,將相機快門調到T門,關閉暗室內燈光,開

??啟快門,同時打開照射光源,并通過可伸縮的掛壁移動照射光源,用照射光源

??產生的光斑對整個痕跡進行“掃描”,“掃描”要做到均勻,曝光時間控制在30

??秒~5分鐘內,痕跡面積較大時,可在痕跡兩端加比例尺,以便痕跡變形時輸

??入計算機進行修正。

5.曝光完畢后,沖洗底片,得到痕跡照片。

為了利用游動定向反射方法顯現非平面光滑客體上的痕跡,照射光源要采用痕跡顯現專用燈,即在現有拋物面燈罩口上,接上一個圓筒,圓筒一端套絲,各種濾波片可通過套絲接在圓筒上,圓筒側面上開有圓孔,圓筒內側有一圓環,上面也開有圓孔,二者的圓孔位置相互錯開,燈座側面上裝有把手和連接桿。工作時,通過連接桿將光源與可伸縮的掛壁相接,用手握住把手,移動光源,使光源產生的光斑可對整個痕跡進行掃描。

為了方便移動照射光源,可將導軌固定在暗室內的天花板上或其他支架上。

由光學原理可知,θ1=θ2,為了保證小角度入射,θ1的范圍控制在0~30°。

本發明所說的客體可以是非平面光滑客體,也可以是平面光滑客體。

本發明方法簡單易懂,操作方便,不但適用于非平面客體,也適用于平面客體。采用本方法,不必再購買其它器材,降低了成本。它改變了痕跡拍照傳統的配光思維模式,巧妙地解決了大面積光源的技術難題,解決了非平面光滑客體上痕跡顯現的問題,提高了工作效率及痕跡的提取率、利用率,為刑事訴訟提供完整、清晰的痕跡物證打下了堅實的基礎。

(四)附圖

附圖是顯現非平面光滑客體痕跡的工作原理示意圖,圖中,1、相機,2、非平面光滑客體,3、照射光源。

(五)最佳實施例

客體為非平面光滑客體,入射角θ=15°,曝光時間取3分鐘,光源距客體的距離為50CM,具體操作步驟重復1~5步,即可得到非平面光滑客體上的痕跡照片。

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