[發(fā)明專利]一種真空電弧重熔裝置及其工藝

無效

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• 申請日: 2001-08-31
• 公開（公告）號: CN1351181A
• 公開（公告）日: 2002-05-29
• 發(fā)明（設計）人: M·G·本茲;M·F·亨賴;小W·T·卡特;B·P·比萊
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: C22B9/21
• 分類號: C22B9/21;B22D23/06
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 林長安

1.一種真空電弧重熔裝置(10)，包括，

一個爐腔(14)；

一位于所述爐腔(14)內并由準備重熔的材料制成的自耗電極(12)；

一位于所述爐腔(14)內的坩堝(16)，所述坩堝(16)包括坩堝壁，形成收集所述自耗電極(12)上產生的熔化材料的容器，其特征在于，所述坩堝壁上刻有紋路，增大了其表面面積，從而促進了凝固的熔化材料機械穩(wěn)定性。

2.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁提供了對所述熔化材料凝固形成的架狀物的固定(42)。

3.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁包括一不平或紊亂的表面(52)，相比平面其表面面積增加。

4.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁包括一有筋的、有圖案的，或者具有交替的脊和槽的波紋表面(52)。

5.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁包括凹槽、褶、壓痕、凹痕或槽。

6.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁表面形成有犁溝、波紋或脊。

7.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁表面形成有基本垂直的槽。

8.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁表面形成有槽(46)，所述槽和垂直面的夾角小于60度。

9.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁表面形成有基本垂直的槽(46)，所述槽的深度在八分之一到四分之三英寸左右，寬度在八分之一到二英寸左右，槽的間距在八分之三到四英寸左右。

10.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁表面形成有基本垂直的槽(46)，所述槽的深度在四分之一到二分之一英寸左右，寬度在四分之一到二分之一英寸左右，槽的間距在二分之一到四分之三英寸左右。

11.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁表面形成有基本垂直的槽(46)，所述槽的圓角最大為槽寬的二分之一左右。

12.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁表面形成有基本垂直的槽(46)，槽深或槽寬在坩堝圓周上所占的比例應在0.001到0.05左右，坩堝內圓周上每英寸內槽的出現頻率在0.1到5左右。

13.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁包括交替的裂隙(56)和尖點(58)。

14.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁包括交替的平底面和尖點(58)。

15.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁包括交替的平頂面(60)和裂隙(56)。

16.根據權利要求1所述裝置(10)，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁包括修圓的起伏形狀(62)。

17.一種真空電弧重熔工藝，包括，

將自耗電極(12)裝入爐腔(14)中的冷卻坩堝(16)上方，所述坩堝包括有紋路的坩堝壁，形成收集所述自耗電極(12)產生的熔化材料的容器；

在所述電極(12)和所述坩堝(16)底部之間加一直流電，使得所述電極尖端的材料被熔化；

聚集從所述電極尖端滴入所述坩堝(16)中的材料；和，

冷卻所述熔化材料形成錠塊，其特點是，凝固材料形成的架狀物位于坩堝有紋路的壁的附近，并處于凝固材料的下邊界的上方。

18.根據權利要求21所述工藝，其特征在于，所述具有紋路的坩堝壁可以穩(wěn)定所述架狀物(42)，防止所述架狀物(42)從所述壁上突然脫落。