[發(fā)明專利]抗氧化性涂層以及相關(guān)制品和方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 01132415.5
• 申請(qǐng)日: 2001-08-31
• 公開（公告）號(hào): CN1340576A
• 公開（公告）日: 2002-03-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J·C·趙;M·R·杰克森
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 通用電氣公司
• 主分類號(hào): C09D1/00
• 分類號(hào): C09D1/00;B05D7/14
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 羅才希

1.一種由合金形成的抗氧化性涂層，所述合金包含：

約30原子％至約55原子％的鋁；和

約0.5原子％至約3原子％的鉭；余量部分包含至少一種基底金屬，所述金屬選自鎳、鈷、鐵及其組合。

2.權(quán)利要求1的涂層，其中所述鋁的存在水平范圍為約35原子％至約55原子％；所述鉭的存在水平范圍為約0.5原子％至約2原子％。

3.權(quán)利要求2的涂層，其中所述鋁的存在水平范圍為約40原子％至約50原子％；所述鉭的存在水平范圍為約0.75原子％至約1.75原子％。

4.權(quán)利要求1的涂層，其中所述合金還包含一種選自鉑、鈀、銥、銠、釕及其混合物的貴金屬。

5.權(quán)利要求4的涂層，其中所述貴金屬為鉑，其存在水平范圍為約1原子％至約10原子％。

6.權(quán)利要求4的涂層，其中所述貴金屬為鉑、釕、銥、銠或其混合物，并且存在水平范圍為約1原子％至約30原子％。

7.權(quán)利要求1的涂層，還包含至少一種選自鋯、鈦、鉿、硅、硼、碳和釔的組分。

8.權(quán)利要求1的涂層，還包含鉬。

9.權(quán)利要求1的涂層，其中至少部分所述基底金屬通過下面的基材的擴(kuò)散獲得。

10.權(quán)利要求1的涂層，還包含約1原子％至約15原子％的鉻。

11.權(quán)利要求10的涂層，其中鉻的水平范圍為約1原子％至約10原子％。

12.權(quán)利要求10的涂層，其中至少部分所述鉻通過下面的基材的擴(kuò)散方式獲得。

13.權(quán)利要求10的涂層，其中所述鋁的存在水平范圍為約35原子％至約55原子％。

14.權(quán)利要求10的涂層，其中所述鉭的存在水平范圍為約0.5原子％至約2原子％。

15.權(quán)利要求10的涂層，其中所述合金還包含一種選自鉑、鈀、銥、銠、釕及其混合物的貴金屬。

16.權(quán)利要求15的涂層，其中所述貴金屬為鉑，其存在水平范圍為約1原子％至約10原子％。

17.權(quán)利要求15的涂層，其中所述貴金屬為鈀、釕、銥、銠或其混合物，其存在水平范圍為約1原子％至約30原子％。

18.權(quán)利要求10的涂層，還包含至少一種選自鋯、鈦、鉿、硅、碳、硼和釔的組分。

19.權(quán)利要求18的涂層，其中鋯、鈦、鉿、硅、碳、硼和釔的總量范圍為約0.1原子％至約5原子％。

20.權(quán)利要求19的涂層，其中鋯、鈦、鉿、硅、碳、硼和釔的總量范圍為約0.4原子％至約2.5原子％。

21.權(quán)利要求18的涂層，其中所述鋯的存在水平范圍為約0.1原子％至約1原子％。

22.權(quán)利要求18的涂層，其中所述組分為鋯和鉿的混合物。

23.權(quán)利要求10的涂層，還包含約0.2原子％至約2原子％的鉬。

24.權(quán)利要求23的涂層，還包含約0.5原子％至約2原子％的鉭。

25.權(quán)利要求1的涂層，包含約30至約45原子％的鋁。

26.權(quán)利要求25的涂層，還包含一種選自鉑、鈀、銥、銠、釕及其混合物的貴金屬。

27.權(quán)利要求25的涂層，還包含至少一種選自鋯、鈦、鉿、硅、碳、硼和釔的組分。

28.權(quán)利要求25的涂層，還包含約1原子％至約15原子％的鉻。

29.權(quán)利要求1的涂層，包含約45至約55原子％的鋁。

30.權(quán)利要求29的涂層，還包含一種選自鉑、鈀、銥、銠、釕及其混合物的貴金屬。

31.權(quán)利要求29的涂層，還包含至少一種選自鋯、鈦、鉿、硅、碳、硼和釔的組分。

32.權(quán)利要求29的涂層，還包含約1原子％至約15原子％的鉻。