[發明專利]壓電式噴墨頭的側進口制造方法無效
| 申請號： | 01129550.3 | 申請日： | 2001-06-26 |
| 公開（公告）號： | CN1393339A | 公開（公告）日： | 2003-01-29 |
| 發明（設計）人： | 林振華;周景瑜;楊明勛;楊長謀 | 申請（專利權）人： | 飛赫科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B41J2/16 | 分類號： | B41J2/16 |
| 代理公司： | 北京集佳專利商標事務所 | 代理人： | 王學強 |
| 地址： | 臺灣省新竹市光*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 壓電 噴墨 進口 制造 方法 | ||
1.一種壓電式噴墨頭的制造方法，其特征在于：包括下列步驟：
在一基底中形成一開口；
在該基底上形成一第一感旋光性高分子膜；
移除部分該第一感旋光性高分子膜，以形成一墨腔底膜，且該墨腔底膜具有復數個出墨口；
在該墨腔底膜上形成一多層感旋光性高分子膜；
移除部分該多層感旋光性高分子膜，以形成一墨腔壁，該墨腔壁具有復數個墨水腔與復數個進墨口，該些墨水腔之一分別圍繞該些出墨口之一，且該些墨水腔之一分別包括該些進墨口之一；
在該墨腔壁之上形成一具有電極圖案的壓電陶瓷推動片；
2.根據權利要求1所述的壓電式噴墨頭的制造方法，其特征在于：該開口的形成方法包括利用蝕刻或鑿穿的方法。
3.根據權利要求1所述的壓電式噴墨頭的制造方法，其特征在于：第一感旋光性高分子膜包括干膜光阻、液態光阻、正光阻、負光阻、感旋光性之聚酰亞胺或感旋光性的環氧樹脂六者之一。
4.根據權利要求1所述的壓電式噴墨頭的制造方法，其特征在于：該第一感旋光性高分子膜在曝光前的厚度在包括10μm至500μm之間。
5.根據權利要求1所述的壓電式噴墨頭的制造方法，其特征在于：該些出墨口的形成方法包括使用曝光顯影法。
6.根據權利要求1所述的壓電式噴墨頭的制造方法，其特征在于：該些出墨口之一的口徑范圍在包括10μm至200μm之間。
7.根據權利要求1所述的壓電式噴墨頭的制造方法，其特征在于：該多層感旋光性高分子膜的形成方法包括：
在該墨腔底膜上依序形成一層或一層以上的復數個第二感旋光性高分子膜。
8.根據權利要求1所述的壓電式噴墨頭的制造方法，其特征在于：該些第二感旋光性高分子膜的材質包括干膜光阻、液態光阻、正光阻、負光阻、感旋光性的聚酰亞胺或感旋光性的環氧樹脂六者之一。
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